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NTIS 바로가기주관연구기관 | 경상대학교 GyeongSang National University |
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연구책임자 | 김현수 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2004-03 |
과제시작연도 | 2003 |
주관부처 | 과학기술부 |
연구관리전문기관 | 한국학술진흥재단 Korea Research Foundation |
등록번호 | TRKO200900071033 |
과제고유번호 | 1350008211 |
사업명 | 지역대학우수과학자지원 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
본 연구에서는 펄스전압을 이용한 전기증착(pulsed electrodeposition) 기술을 이용하여
금속 씨드층 없이 직접 n-Si(111) 기판 위에 Fe를 증착시켰다. 또한 용액/Si 사이의 안정하
고 균일한 계면 반응을 촉진시키기 위하여 비수용액 내에서 전기증착을 수행하였으며 Fe
박막을 성장시키기 위하여 0.1 M FeCl2+methanol 용액을 사용하였다. 증착 전 계면 특성
을 CV 및 MS-plot을 이용하여 분석한 결과 벌크 Fe와 n-Si(111) 기판을 작업전극으로 할
경우, 벌크
Single crystalline α-Fe films were grown on the n-Si(111) substrates at RT
without any buffer layer by electrochemical deposition in a non-aqueous solution. It
was found that from current transients analysis, Fe nucleates according to
instantaneous nucleation mechanism at the initial stage
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