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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 조영상 |
참여연구자 | 김주희 , 오재춘 , 김재익 , 김현자 , 이승규 , 허정은 , 이희진 , 양재승 |
보고서유형 | 3단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2003-06 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200900072138 |
과제고유번호 | 1350007042 |
사업명 | 중점국가연구개발 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
키워드 | 옥사이드 CMP 폐수.정화처리.실리카 활성화제.금속 CMP.재이용.질산염.Oxide CMP wastewater.Treatment.Silica activator.Metal CMP.Reuse.Nitrate. |
총 5차년도의 연구 기간 중 3단계는 2년 동안 진행되었다. 우선 Oxide CMP 폐수 정화처리 부문에서 1차년도의 Demo-Pilot 건설 및 실험을 바탕으로 2차년도에는 Hynix 반도체 청주공장에 유휴시설인 폐수 정화 반응조가 4기와 응집침강조 1기를 활용하고 황산저장조 및 황산투입시스템, 폴리머응집계 투입시스템,
The aim of this research is to develop treatment processes to remove inorganic pollutant in industrial wastewater for the reuse of water and raw materials. In this research several wastewater treatment technologies were developed for wastewater especially contaminated by fine particles, heavy metals
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