초록 ▼

시간,공간 분해능을 가지는 방사광X선을 이용, in-situ 상태에서 실시간 (real time) 및 비파괴적 방법으로, 금속/반도체 나노 구조를 체계적으로 분석하는 기 술을 확립하고 이를 적용함. 방사광 X선을 이용한 나노구조 분석 기반 기술 확보 실시간 나노구조 분석을 위한 장치 개발 : 방사관 X선 산란 실험 장치와 결함된 in-situ 금속/반도체 나노구조 제작 장치 (스퍼터, UHV 시스템, 열처리 장치 등) 설계, 제 작 개발 표면 감응 X 선 산란 기법 개발 : 표면에서의 X선 반응에 관한 과학적 기초 분석, 표면 X선

시간,공간 분해능을 가지는 방사광X선을 이용, in-situ 상태에서 실시간 (real time) 및 비파괴적 방법으로, 금속/반도체 나노 구조를 체계적으로 분석하는 기 술을 확립하고 이를 적용함. 방사광 X선을 이용한 나노구조 분석 기반 기술 확보 실시간 나노구조 분석을 위한 장치 개발 : 방사관 X선 산란 실험 장치와 결함된 in-situ 금속/반도체 나노구조 제작 장치 (스퍼터, UHV 시스템, 열처리 장치 등) 설계, 제 작 개발 표면 감응 X 선 산란 기법 개발 : 표면에서의 X선 반응에 관한 과학적 기초 분석, 표면 X선 산란 실험 기법, 실험결과 (거칠기, 원자구조) 분석용 소프트웨어 개발 비정상 X 선 산란 기법 개발 : 비정상 X선 산란의 과학적 기초 분석, 실험 기법, 분석 시스템 개발 나노구조 분석 기술 확립 및 금속/반도체 시스템에의 적용 금속/반도체 시스템 (CoSi2/Si, NiAu/GaN, GaN/Al2O3, ZnO/Al2O3 등) 나노 구조의 미세 구조, 상전이, 스트레인 분석 표면/계면의 원자 구조 분석 (CoSi2/Si, GaN/Al2O3 등) 나노 구조의 화학 조성 분석 (CoCrPt/Ti 등)

Abstract ▼

Using the spatial and time coherent synchrotron X-rays, we have developed and established the X-ray scattering techniques for characterization of nano-structure of metal/semiconductor systems. Main advantages of the techniques lie in their applicability to in-situ, real-time and nondestructive inves

Using the spatial and time coherent synchrotron X-rays, we have developed and established the X-ray scattering techniques for characterization of nano-structure of metal/semiconductor systems. Main advantages of the techniques lie in their applicability to in-situ, real-time and nondestructive investigation. The development includes i) the instrumentation of in-situ deposition systems combined with X-ray goniometer (i.e. in-situ sputtering, UHV and annealing systems), ii) the technical development of special X-ray scattering technique specially directed toward the analysis of atomic structure and/or chemical composition of the nano-structure, such as surface X-ray scattering and anomalous X-ray scattering. By performing the research project on this purpose, we have found many interesting phenomena in the structural nature and the formation mechanism of nano-structure of metal/semiconductor systems. Some representative results are summarized as follows

목차 Contents

• 제 1 장 연구개발과제의 개요...8
• 제 1 절 연구개발의 목적...8
• 제 2절 연구개발의 필요성...9
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황...12
• 제 1절 방사광 가속기 및 나노 구조 분석 동향...12
• 제 2절 방사광 X선을 이용한 금속/반도체 나노구조분석의 분류...13
• 제 3절 현 기술상태의 취약성 및 전망...13
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과...15
• 제 1 절 연구개발 방법...15
• 제 2 절 연구결과...17
• 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...51
• 제 1 절 연구개발 목표의 달성도...51
• 제 2 절 관련분야의 기술발전에의 기여도...53
• 1. 기술적인 측면...53
• 2. 경제 / 산업적 측면...53
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획...55
• 제 1 절 표면/계면 구조 및 반응 분석 기술...55
• 제 2 절 다성분 나노 구조의 화학 성분 분석 기술...55
• 제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보...56
• 제 1절 방문/공동 연구를 통해 수집한 해외과학기술정보...56
• 제 2 절 논문 및 학술지 검색 자료...56
• 제 7 장 참고문헌...59