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NTIS 바로가기주관연구기관 | 피앤아이(주) 기술연구소 |
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연구책임자 | 고석근 |
참여연구자 | 백영환 , 한성 , 조준식 , 김기환 , 한영건 , 이철수 , 성진욱 , 유대환 , 석진우 , 고성수 |
보고서유형 | 2단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2003-06 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200900072400 |
과제고유번호 | 1350000944 |
사업명 | 국가지정연구실사업 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
키워드 | 친수성.이온빔.플라즈마.고분자.인듐주석산화물박막.표면처리.Hydrophilicity.Ion beam.Plasma.Polymer.ITO thin film.Surface modification. |
1. 저온 공정의 고품질 투명전도성 산화물 박막제조 기술개발 o 고분자 기판위의 ITO 박막 저온성장 기술 개발 - 접착력 증대를 위한 고분자 기판의 이온빔 표면처리조건 확립 - 가시광 투과도 88% (at 550nm) - 면저항
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