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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전자부품연구원 Korean Electronics Technology Institute |
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연구책임자 | 박종철 |
참여연구자 | 강남기 , 이형규 , 김준철 , 이우성 , 방규석 , 조현민 , 박성대 , 유찬세 , 이영신 , 유명재 , 김경철 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2004-08 |
과제시작연도 | 2003 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200900073085 |
과제고유번호 | 1350001866 |
사업명 | 국가지정연구실사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 후막.리소그라피.저온소성세라믹.미세라인.내장형 수동소자.감광성 페이스트.thick-film.lithography.LTCC.fine line.embedded passives.photosensitive paste. |
1. 후막 리소그라피를 이용한 미세라인 형섣기술 구축
- Photoimageable & photoetchable 공정 조건 set-up: 상용 페이스트별 노광, 현상 및 에칭조건 선정
- Etched, printed 및 photoimaged 도선 형상, 해상도, 전송특성 등 비교 평가
- 상용 photoimageable paste를 이용한 다층화 공정기술 개발 : Series & Parallel Process
2. 내장형 수동 소자 라이브러리 개발
- LTCC 적층공정과의 융합을 이용한 내장형 L, C 라
This report shows the results of research for the development of core technology for microwave module using thick film lithography process. Thick film lithography is a new process in which some photolithographical steps such as exposure and development are added to conventional thick film process us
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