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PI 필름의 Direct patterning을 위한 상온/상압 플라즈마 표면처리 장치 개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 (주)에스엔텍
연구책임자 안경준
보고서유형중간보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2008-09
과제시작연도 2007
주관부처 중소기업청
사업 관리 기관 한국산업기술평가원
등록번호 TRKO201000006818
과제고유번호 1425043899
사업명 중소기업기술혁신개발
DB 구축일자 2015-01-08

초록

연구개발팀의 선행연구결과 기존의 Direct Type, Remote Type의 대기압 플라즈마 리액터 단독으로는 PI 필름의 표면처리를 원활히 할 수 없고, 새로운 형태의 플라즈마 리액터를 제작해야 한다. 우선 위탁기관인 금오공대 정보재료 및 소자연구실의 축적된 플라즈마 소스 관련 기술을 도입하여 PI 필름 처리공정이 확보된 Direct Type 플라즈마 리액터를 안정화 시킨다. 구조적 약점에 의한 강한 Filamentary discharge를 억제하여 균일하고 재연성 있는 Direct Type 플라즈마 리액터를 확보한다.
D

목차 Contents

  • 진도보고서 ...1
  • 기술개발 추진현황 ...2
  • 1. 개발목표 ...3
  • 1.1 개발목표 및 주요평가항목 ...3
  • 1.2 1차년도 세부개발내용 및 추진계획 ...4
  • 2. 사업추진현황 ...5
  • 2.1 플라즈마 리액터 시험기 제작 ...5
  • 2.2 플라즈마 리액터 특성평가 ...8
  • 2.3 PI 필름 전처리용 플라즈마 리액터 모듈 설계/제작 ...17
  • 3. 개발과정상의 문제점 ...19
  • 4. 개발목표의 달성가능 여부 ...19
  • 5. 향후 추진계획 ...19
  • 사업비 사용 내역서 ...21

참고문헌 (25)

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