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보고서 상세정보

입체적인 나노구조 가공법에 의한 차세대 적층형 전자소자의 개발

Development of next generation electronic devices on layered materials by 3-D nano-scale patterning methods

과제명 입체적인 나노구조 가공법에 의한 차세대 적층형 전자소자의 개발
주관연구기관 제주대학교
Cheju National University
연구책임자 김상재
보고서유형 최종보고서
발행국가 대한민국
언어 한국어
발행년월 2010-02
과제시작년도 2009
주관부처 교육과학기술부
사업 관리 기관 한국연구재단
등록번호 TRKO201000013977
과제고유번호 1345103440
사업명 일반연구자지원
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 3 차원 가공.집속이온빔가공.고유조셉슨접합 (효과).나노주기 이방성 적층재료.차세대 전자소자.단전자 턴넬소자.3-dimensional patterning method.focused-ion-beam etching.intrinsic Josephson effect(junctions).nano-periodic anisotropic materials.next generation devices.single electron tunneling devices.
초록

현재 직면한 차세대 전자소자개발의 가장 큰 장벽 중의 하나는 고집적화에 의한 소자의 열발산 및 히팅현상에 의한 문제이다. 이러한 문제를 해결 할 수 있는 유일한 방안으로써 본 연구에서는 나노주기의 적층구조를 이용한 새로운 개념의 입체...

Abstract

The purpose of this project was the development of next generation devices including single electron tunneling devices using stack...

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