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NTIS 바로가기주관연구기관 | 연세대학교 산학협력단 |
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연구책임자 | 조용수 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-04 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201000014443 |
과제고유번호 | 1345106296 |
사업명 | 일반연구자지원 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 플렉시블 소자.flexible device.nitride.stress.passivation layer.thin film.thermal conduction. |
Flexible 디바이스용 고열전도도를 가지는 nitride passivation 보호막 소재 개발
- 150oC 이하 저온 증착으로 목표로 nitride계 소재 박막 증착
- 보호 절연막으로서 높은 광투과도 및 roughness를 만족하는 flexible 박막 소재 개발 (transmittance: >80% ,roughness: <3nm 목표)
- 극저온에서의 결정화 거동 및 adhesion 기구 연구
Bending stress시 nitride막으로 보호된 flexible 전도성 막의 변화 연구
- B
Development of nitride-based passivation layer for flexible devices
- Successful deposition of nitride thin films at low temperatures of 150oC
- Fabrication of clear and smooth surface thin film as a passivation layer (target transmittance: >80%, roughness: <3nm)
- Crystallization and adhes
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