스퍼터링법에 의한 고밀착력을 갖는 가시/자외광 반응형 TiO2계 광촉매 박막 개발 The development of VIS/UV sensitized TiO2 photocatalysis thin film with high adhesion force by sputtering method원문보기
1) $TiO_2$ Target 의 개발 - 소결후 변형이 없는 최적 소결공정 개발 ( 800~1,200℃ sintering) - 밴드갭 변화를 목적으로 한 불순물 주입방법 개발 - XRD 분석 결과 anatase 또는 rutile 형태의 $TiO^2$ Target 의 제조가 확인됨
2) $TiO_2$박막의 개발 - 약 300mA의 직류 전력에서 스퍼터링된 경우 산소 함량이 약 4% 이상에서는 오직 anatase 상만이 관찰되지만 그 이하의
1) $TiO_2$ Target 의 개발 - 소결후 변형이 없는 최적 소결공정 개발 ( 800~1,200℃ sintering) - 밴드갭 변화를 목적으로 한 불순물 주입방법 개발 - XRD 분석 결과 anatase 또는 rutile 형태의 $TiO^2$ Target 의 제조가 확인됨
2) $TiO_2$박막의 개발 - 약 300mA의 직류 전력에서 스퍼터링된 경우 산소 함량이 약 4% 이상에서는 오직 anatase 상만이 관찰되지만 그 이하의 산소 함량에서는 anatase와 rutile 상이 혼재하다가 약 1.4% 이하의 산소 함량에서는 단지 anatase 상만이 나타나고 있음 - Scratch Test법으로 측정된 $TiO^2$ 박막의 부착력은 30 N 이상이었음 - 초친수성 측정 결과 약 5% 의 접촉각을 나타내고 있음 - 120 min 동안 6. 3 rpm으로 회전시키고 Ar: O 2의 분압비가 40: 60인 조건으로 제작된 순수 TiO 2 박막이 벤젠에 대하여 약 11% 의 전화율을 나타내고 있음 - Ar에 대한 $O_2$의 비가 95.7:4.3인 촉매의 경우, 파장 254nm의 UV가 30cc/ min 로 조사된 경우 전화율이 약 9% 정도까지 증가함 - Ar에 대한 $O_2$의 비가 95.7:4.3인 촉매의 경우 400n m에서도 상당한 광활성을 나타내는 것으로 보아 가시광 영역에서도 활성이 나타 날 것으로 생각됨 - 질소가 도핑된 촉매의 경우는 산소가 결핍된 상태의 $TiO^2$ 박막과는 다르게 induction period가 짧아 빠르게 전화율이 증가하였고, 조사시간에 따라 전화율이 서서히 감소하는 경향을 보이며 산소가 결핍된 $TiO^2$ 박막보다 활성이 매우 낮았음
Abstract▼
$TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because$Tio_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because of their high refractive index, high dielectric constant, and pho
$TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because$Tio_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because of their high refractive index, high dielectric constant, and photo-catalytic properties .$TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because films are also used as optical materials, such as anti reflective coatings, high-reflectance films and wavelength-selective films, electronic materials such as insulator films of capacitors, and photo-catalysts. And during the past decade, many new approaches have been considered for extending the response of $TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because into the visible region. Intrinsic doping with transition metal ions during chemical synthesis was initially considered effective. However, chemically doped transition metal ions were observed to accelerate the rate of charge recombination and decrease the overall catalytic efficiency. Recently, an other promising approach involves an ion doping of the $TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because films and nano structures. Efforts have also been made to narrow the bandgap using oxygen vacancy or doping with carbon, nitrogen, and sulfur. Such a procedure shifts the valence band to a less negative potential, thereby, decreasing the bandgap. There are many different methods to prepare $TiO_2$ films have attracted much attention for optical, electrical and environmental applications because films, including sol?gel method, liquid deposition method, sputtering deposition method and so on. In comparison with the conventional wet processes, some advantages such as higher and easily controlled sputtering speed, high quality and uniform films and convenient manipulation, make the deposition processes like reactive magnetron sputtering are currently used to produce high purity oxide films for application in various advanced technologies. Apart from the benefits noted above, it is attractive for this film fabrication technique to keep the substrate at low temperature during the sputtering deposition, which allows the material with low melting point to be used as substrates. Furthermore, sputtering depositions should be one of the most promising techniques for large-area uniform coatings with high packing density and strong adhesion.
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