초록 ▼

1. 최종목표
연료전지 Bipolar palte용 티타늄 정밀 etching 기술 개발
2. 개발내용 및 결과
1) Bipolar Plate용 타이타늄 plate 제작
타이타늄 소재의 Bipolar plate용 목표 치수를 폭 2mm, 깊이 0.5mm, 연장 총길이 150mm로 설정하여 개발을 진행하였다. 주어진 치수에 대한 간단한 형상의 유로를 제작하여 티타늄 plate에 적용하였다. 시제품으로 제작한 제품들은 상기의 치수를 만족하도록 디자인하였다.
2) 정밀 Etching을 위한 Masking Proc

1. 최종목표
연료전지 Bipolar palte용 티타늄 정밀 etching 기술 개발
2. 개발내용 및 결과
1) Bipolar Plate용 타이타늄 plate 제작
타이타늄 소재의 Bipolar plate용 목표 치수를 폭 2mm, 깊이 0.5mm, 연장 총길이 150mm로 설정하여 개발을 진행하였다. 주어진 치수에 대한 간단한 형상의 유로를 제작하여 티타늄 plate에 적용하였다. 시제품으로 제작한 제품들은 상기의 치수를 만족하도록 디자인하였다.
2) 정밀 Etching을 위한 Masking Process 정립
티타늄 소재에 적합한 Masking process를 개발하기 위하여 photoresist 방식을 채택하였다. 또한 티타늄에 가장 알맞은 photoresist 방식을 채택하기 위한 조건을 실험하여 안정적이고 적합한 조건을 선정하였다.
3) 정밀 Etching 기술 개발
(주) 엔아이비가 보유한 티타늄 Macro Etching 용액을 이용하여 목표로 하는 정밀 etching을 수행해 보았으나 큰 어려움이 있었고, photoresist와의 반응으로 인하여 작업에 애로가 있었다. 본 조건에 적합한 etching 조건을 선정하는데 많은 실험방법을 동원하여 현재는 초기보다 나은 결과를 얻었지만 더 좋은 조건에 대한 실험시간이 더 필요한 실정이다.
3. 사업성과
○ 기술적 성과
고내식성 티타늄 소재에 대한 정밀 micro etching 기술의 가능성을 확인할 수 있었다. 티타늄의 경우 자체적으로 강력한 부동막을 형성하고 있어 부식에 대한 강한 저항성을 갖고 있는 소재로 알려져 있다. 본 연구 개발에서도 기존의 사용하던 Macroetching 용액으로는 격렬한 반응으로 티타늄 표면에 많은 pitting을 형성시키고 masking 소재와의 반응으로 인한 상품화에 어려움이 있음을 확인하였다. 많은 실험 조건 변경을 통하여 초기보다 나은 micro etching 기술을 개발할 수 있어 향후 정밀 etching에 대한 기술 가능성을 확인할 수 있었다.
○ 경제적 성과
대부분의 정밀 etching 기술력이 그다지 높지 않고, 기술적 격차도 선진국에 비하여 낮은 실정이다. 그리고 국내에서의 시장 수요는 상품 고급화에 따라 지속적으로 성장하고 있는 추세이다. 따라서 본 과제에서 수행한 기술을 더욱 개발하고 안정화한다면 향후 선진국에서 수입되고 있는 많은 부품들에 대한 수입대체 효과에 크기 이바지할 것으로 기대한다.
○ 활용성과 등
본 기술을 이용하여 고부가가치 사업 분야인 전자제품 외장형 Frame에 적용 가능할 것으로 기대되고 있다. 특히 상품의 기술적 정점을 걷고 있는 전자산업의 경우에 적용된다면 고급 Brand화를 선점할 수 있을 것으로 기대된다.
4. 향후추진계획
티타늄 micro etching에 가장 적합한 etching 용액을 선정하고, 가장 적합한 작업 공정을 확립하여 연료전지 분야뿐만 아니라 고부가가치 사업에 적용할 수 있도록 개발을 더 진행할 예정이다.

목차 Contents

• II. 과제개발비 집행내역...1
• 가. 세부 집행내역 요약표...1
• 나. 과제 ? 비목별 세부 집행내역...1
• 개발결과의견서...4
• 최종보고요약서(초록)...5
• 목 차...7
• 제 1 장 서 론...8
• 제 1 절 개발대상기술(또는 제품)의 개요...8
• 제 2 절 기술(또는 제품)개발의 필요성 및 중요성...8
• 제 3 절 국내?외 관련 기술의 현황...9
• 제 2 장 과제개발 내용 및 방법...11
• 제 1 절 Bipolar Plate용 타이타늄 plate 제작...11
• 제 2 절 정밀 Etching을 위한 Masking Process 정립...11
• 제 3 절 정밀 Etching 기술 개발...12
• 제 3 장 사업성과...14
• 제 1 절 기술적 성과...14
• 제 2 절 경제적 성과...14
• 제 3 절 기타 성과를 기술...14
• 제 4 장 결 론...15
• 제 1 절 맺음말...15
• 제 2 절 기대 효과...15
• 제 3 절 향후 계획...15