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NTIS 바로가기주관연구기관 | 두원공과대학 산학협력단 |
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연구책임자 | 유경상 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2008-06 |
과제시작연도 | 2007 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 중소기업기술정보진흥원 |
등록번호 | TRKO201100008894 |
과제고유번호 | 1425045666 |
사업명 | 산학연 공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 최종목표
반도체 전 처리 공정 중에서 플라즈마 부하 상태에서 공정을 진행하는 DRY ETCH공정, PE-CVD공정, SPUTTER 공정 등에서 사용되는 플라즈마를 발생시키기 위한 전원 장치로 주로 사용되는 고주파 전원장치를 개발한다.
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