초록 ▼

1. 최종목표
교류 고전압으로 은 이온 입자의 크기가 평균 3~6 nm로 아주 작고 균일한 은 이외에 다른 물질이 일절 함유되어 있지 않으면서 10ppm 농도 이상을 나타내며, 은 이온수의 생산량을 향상시키며, 고농도와 균일한 입자 크기를 가진 은 이온수를 제조할 수 있는 은 이온수 제조 자동화 장치를 개발하는 것이다.
2. 개발내용 및 결과
전기분해시 주파수 변환장치 및 전류량을 자동제어 할 수 있는 회로를 구성하여 균일한 크기 및 고농도 은 입자를 생산하며 처리시간의 조정으로 원하는 농도로 콜로이드 실버를 제조

1. 최종목표
교류 고전압으로 은 이온 입자의 크기가 평균 3~6 nm로 아주 작고 균일한 은 이외에 다른 물질이 일절 함유되어 있지 않으면서 10ppm 농도 이상을 나타내며, 은 이온수의 생산량을 향상시키며, 고농도와 균일한 입자 크기를 가진 은 이온수를 제조할 수 있는 은 이온수 제조 자동화 장치를 개발하는 것이다.
2. 개발내용 및 결과
전기분해시 주파수 변환장치 및 전류량을 자동제어 할 수 있는 회로를 구성하여 균일한 크기 및 고농도 은 입자를 생산하며 처리시간의 조정으로 원하는 농도로 콜로이드 실버를 제조 할 수 있도록 은 이온수 제조 자동화 장치를 개발했다.
3. 사업성과
○ 기술적 성과
본 기계장치는 기존의 은이온수 제조 장치와는 달리 양쪽의 은판에 교대로 출력이 가능하도록 하여 기존의 문제점인 한쪽 분해 방식을 양쪽분해 방식으로 하였다. 또한 저전압을 출력하여 1차적으로 은을 녹인 후 그 녹인 은을 다시 고전압을 가하는 방식으로 나노 은 입자를 생성하도록 하였다.
이렇게 생산하면 기존의 직류고전압 장치에서 생산되던 은 나노양보다 훨씬 많은 양을 짧은 시간에 생산 할 수 있다. 또한 기존의 장치는 장시간을 사용할 수 없는 문제점을 가지고 있으나 이 문제점을 해결함과 동시에 은 나노의 농도 또한 증가 시킬 수 있게 되었다.

목차 Contents

• 개발결과의견서...1
• 최종보고요약서(초록)...2
• 목차...4
• 제 1 장 서론...5
• 제 2 장 과제개발 내용 및 방법...6
• 제 1 절 고주파 고전압 변화 회로장치 개발...6
• 제 2 절 은 이온수 자동화 기계 장치 제조...8
• 제 3 절 은 이온수 자동화 장치로 생산한 은 이온수의 특성...9
• 제 3 장 사업성과...10
• 제 4 장 결론...10