초록 ▼

1. 최종목표
- DBD 플라즈마 표면처리 기법을 이용하여 저가이면서 광 반사율 3% 의 고효율의 태양전지를 개발함으로써 참여기업의 태양전지를 이용한 전력발생 코스트를 저감한다.
2. 개발내용 및 결과
- 플라즈마 표면처리를 위한 DBD(Dielectric Barrier Discharge) reactor 제작
- 실험 및 수치적 해석에 의한 DBD 플라즈마 생성의 최적조건 확립
- 나노레벨 표면처리 공정의 최적화(45×45 mm 단결정/다결정 Si기판을 대상으로 표면형상과 반사율과의 상관관계 규명, 처리시

1. 최종목표
- DBD 플라즈마 표면처리 기법을 이용하여 저가이면서 광 반사율 3% 의 고효율의 태양전지를 개발함으로써 참여기업의 태양전지를 이용한 전력발생 코스트를 저감한다.
2. 개발내용 및 결과
- 플라즈마 표면처리를 위한 DBD(Dielectric Barrier Discharge) reactor 제작
- 실험 및 수치적 해석에 의한 DBD 플라즈마 생성의 최적조건 확립
- 나노레벨 표면처리 공정의 최적화(45×45 mm 단결정/다결정 Si기판을 대상으로 표면형상과 반사율과의 상관관계 규명, 처리시간과 표면구조와의 상관관계 규명, 최적 처리조건 규명)
-10㎛ 크기의 Pyramid 표면에 100nm 오더의 미세 凹凸 구조 형성
- Si 전극 표면의 광 반사율이 14% 에서 6% 로 저감
3. 사업성과
○ 기술적 성과
- 고효율의 태양전지를 낮은 제조 코스트로 공급할 수 있는 새로운 프로세스 기술 확립.
- 나노 레벨의 고성능 표면 가공 기술 확립.
- 대기압 DBD 플라즈마 기술의 새로운 응용분야에의 확대
○ 경제적 성과
- 태양전지를 위시한 유관 전자 디바이스 산업의 발전 도모.
-대기압 DBD 플라즈마를 이용한 프로세스 기술은 대규모 설비 투자에 큰 부담이 없으므로, 상용화가 용이하고, 신속하게 생산량을 증가시킬 수 있어, 기업화가 용이함.
○ 활용성과 등
- 보다 고 효율의 표면 처리된 태양전지의 적용으로 기업의 영업이익 증대.대규모 설비 투자에 큰 부담이 없으므로, 상용화가 용이함.
4. 향후추진계획
- 광반사율을 더욱 저감할 수 있는 공정 과정의 최적화
- DBD 플라즈마 표면처리 시간의 단축
- 대면적 기판에 대한 적용

목차 Contents

• 개발결과의견서...1
• 최종보고요약서(초록)...2
• 제 1 장 서론...3
• 제 1 절 본 연구의 목적 및 필요성...3
• 제 2 절 태양전지의 원리 및 제조 방법...3
• 제 3 절 국내외 관련 기술 현황...7
• 제 2 장 과제개발 내용 및 방법...8
• 제 1 절 과제개발 내용 및 범위...8
• 제 2 절 표면처리에 따른 반사율 특성...12
• 제 3 장 사업성과...19
• 제 1 절 기술적 측면...19
• 제 2 절 경제 및 산업적 측면...19
• 제 3 절 활용방안...19
• 제 4 장 결 론...20
• 제 1 절 DBD 플라즈마를 이용한 2차 표면처리의 효율성...20
• 제 2 절 향후 과제...20