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NTIS 바로가기주관연구기관 | 동서울대학 산학협력단 |
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연구책임자 | 허용민 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2008-05 |
과제시작연도 | 2007 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 중소기업기술정보진흥원 |
등록번호 | TRKO201100013016 |
과제고유번호 | 1425045530 |
사업명 | 산학연 공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 최종목표
▷ 반도체 제조사의 300mm 반도체 설비 투자에 본격 대응하기 위한 300mm FRD 세정, 건조 장비의 개발 및 국산화 장비 개발
▷ 기존의 세정ㆍ건조 기능 이외에, 웨이퍼 표면의 산화막(SiO2 - 자연산화막, 유기산화막), 유기물 등을 포괄적으로 제거하는 DHF(Diluted Hydrogen Fluoride) 공정 기술 개발
▷ 웨이퍼 세정ㆍ건조 기능과 DHF 공정이 단일 반도체 Chemical Bath(공정조) 안에서 순차적으로 수행될 수 있도록 하는 Hybrid 첨단 기술 개발
▷ 개발
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