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반도체 및 LCD 공정 후 배출되는 SF6가스 제거용 화학반응 고정제 개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 요업기술원
Korea Institute of Ceramic Eng & Tech
연구책임자 김대성
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2008-06
과제시작연도 2007
주관부처 중소기업청
사업 관리 기관 중소기업기술정보진흥원
등록번호 TRKO201100013244
과제고유번호 1425045036
사업명 산학연 공동기술개발
DB 구축일자 2013-04-18

초록

1. 최종목표
반도체 및 LCD ETCH공정 후 배출되는 미반응 가스인 육불화황($SF_{6}$ gas)를 저온에서 화학반응을 이용하여 유해한 2차 부생성물 발생이 없이 99% 효율 이상으로 처리할 수 있는 고정제를 개발.
- $SF_{6}$처리 온도 : 400~600 도 (99% 이상 분해 시)
- $SF_{6}$ 분해 효율 : 99% 효율 이상
- $SF_{6}$ 처리 시 총유량 : 0.1~1 slpm (Lab scale)

목차 Contents

  • 사업비사용실적보고서 ... 1
  • Ⅰ. 조성 금액 ... 1
  • Ⅱ. 과제개발비 집행내역 ... 1
  • 개발결과의견서 ... 4
  • 최종보고요약서 (초록) ... 5
  • 목 차 ... 7
  • 제 1 장 서론 ... 8
  • 제 1 절 개발대상기술(또는 제품)의 중요성(필요성) ... 8
  • 제 2 절 국내외 관련기술의 현황(시장규모 포함) ... 10
  • 제 3 절 기술개발 시 예상되는 파급효과 및 활용방안 ... 14
  • 제 2 장 과제개발 내용 및 방법 ... 16
  • 제 1 절 기술개발 목표 및 세부내용(계획) ... 16
  • 제 2 절 세부개발내용 및 방법(실적) ... 21
  • 제 3 절 실험데이타, 도면, 인증서 등 ... 46
  • 제 3 장 사업성과 ... 51
  • 제 1 절 기술성과 ... 51
  • 제 2 절 경제적 성과 ... 51
  • 제 3 절 기타성과 ... 52
  • 제 4 장 결론 ... 53
  • 제 1 절 계획대비 실적 및 성과 ... 53
  • 제 2 절 향후개선 사항 ... 54
  • 제 3 절 적용분야 및 기대 효과 ... 58

참고문헌 (25)

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