최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 금오공과대학교 Kumoh National Institute of Technology |
---|---|
연구책임자 | 이동구 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2009-06 |
과제시작연도 | 2008 |
주관부처 | 중소기업청 |
과제관리전문기관 | 산학연전국협의회 |
등록번호 | TRKO201100014717 |
과제고유번호 | 1425052254 |
사업명 | 산학연공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
1. 최종목표
? Flip Chip용 고정밀, Fine Pitch Tension Metal Mask 개발
- 최대 Mask Size는 소노콤과 동일한 560 X 560㎜로 함
- 두께 20~40±3㎛, 최소 Hole Size 75㎛±2㎛이하, Pitch 120㎛이하로 개발하여, 소노콤보다 우수한 Metal Mask를 선도 개발하는 것이 목표임
2. 개발내용 및 결과
? 도금 물성 확인 : 비커스 경도계
- 경도 437.4~475.7Hv(코발트 함유량 2.5g/L, 2ASD, 시편두께 100㎛)
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.