최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 광운대학교 산학협력단 |
---|---|
연구책임자 | 고중혁 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-05 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 |
사업 관리 기관 | 한국산업기술평가관리원 (중기청) |
등록번호 | TRKO201100015311 |
과제고유번호 | 1425065616 |
사업명 | 산학연공동기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 최종목표
1) 나이오 베이트 기반의 커패시터 커패시터의 후막 공정 연구
2) 낮은 유전손실의 초고주파용 커패시터의 개발 (유전손실 0.01 이하 @ 2 GHz)
3) 상온~120 °C까지의 온도에서 10 % 이하의 낮은 유전손실구현
4) 초고주파 3D 시뮬레이션을 이용한 Interdigital capacitor의 설계 및 특성 평가연구
2. 개발내용 및 결과
1) Screen printing 기법을 사용함에 있어서 후막의 특성저하를 발생시킬 수 있는 변수를데이터화하여(스퀴지의 압력과 속도) 문제
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.