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TFT LCD용 Silicon ALD 공정 및 장비개발을 위한 분석 기술지원 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국기계연구원 부설 재료연구소
연구책임자 임영목
참여연구자 한상호 , 김문정
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2007-06
주관부처 산업자원부
사업 관리 기관 산업자원부
Korea Institute for Industrial Economics and Trade
등록번호 TRKO201200003914
DB 구축일자 2013-05-20
키워드 TFT LCD.원자 층 증착.플라스마.결정질 실리콘.태양 전지.TFT LCD.ALD.Plasma.Crystalline silicon.photovoltaic cell.

초록 ▼

1. TFT LCD 및 OLED용 Silicon ALD(atomic layer deposition)공정 조건 확보를 위한 분석지원
1) 공정 온도와 결정화 정도간의 관계
2) 공정 온도와 전기적 성질간의 관계
3) 플라스마(plasma) 조건
: 플라스마 종류에 따른 결정화 유무
4) As-deposition 상태에서의 저온 결정질 실리콘 생성위한 최적조건 확보
2. 분석지원결과를 토대로 참여 기업의 양산용 장비에 대한 공동 개발 계약
1) 장비 : TFT LCD용 6세대 (기판 크기 1,600

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 제출문 ... 2
  • 기술지원성과 요약서 ... 3
  • 기술지원성과 요약문 ... 4
  • 목차 ... 13
  • 제 1 장 사업의 개요 ... 14
  • 제 1 절 기술지원 필요성 ... 14
  • 제 2 절 기술지원 목표 ... 15
  • 제 3 절 기술지원 내용 ... 16
  • 제 2 장 국내외 기술현황 ... 19
  • 제 1 절 국외 현황 ... 19
  • 제 2 절 국내 현황 ... 19
  • 제 3 절 국내외 경쟁기술 연구 현황 ... 20
  • 제 3 장 기술지원 수행 내용 및 결과 ... 21
  • 제 1 절 기술지원 수행 ... 21
  • 제 2 절 기술지원 성과 ... 42
  • 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 44
  • 제 1 절 지원목표달성도 ... 44
  • 제 2 절 기술발전에의 기여도 ... 45
  • 제 5 장 기술지원결과의 활용계획 ... 47
  • 제 6 장 참고문헌 ... 50

참고문헌 (25)

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