초록 ▼

1-1. 관련기술의 특성
○ 반도체 장비용 통합제어시스템은 CVD, PVD, Etcher, Photolithography, wet station 등 여러 가지 반도체 공정장치 및 반송장치 등에 완벽하고 안정적인 제어 솔루션을 제공하는 통합제어시스템이다.
○ 통합제어시스템은 각각의 다양한 고객의 사용 환경에 알맞게 설치 및 사용자설정이 손쉽게 이루어 질 수 있는 기능을 갖추고 있어, 사용자가 요구하는 공정 환경을 정확하게 분석하고 최적의 제어시스템을 생성할 수 있는 장점이 있다.
○ 반도체 공정장비 제어에 필요한 모든

1-1. 관련기술의 특성
○ 반도체 장비용 통합제어시스템은 CVD, PVD, Etcher, Photolithography, wet station 등 여러 가지 반도체 공정장치 및 반송장치 등에 완벽하고 안정적인 제어 솔루션을 제공하는 통합제어시스템이다.
○ 통합제어시스템은 각각의 다양한 고객의 사용 환경에 알맞게 설치 및 사용자설정이 손쉽게 이루어 질 수 있는 기능을 갖추고 있어, 사용자가 요구하는 공정 환경을 정확하게 분석하고 최적의 제어시스템을 생성할 수 있는 장점이 있다.
○ 반도체 공정장비 제어에 필요한 모든 기능을 라이브러리로 제공하여 장비 특성에 맞는 시퀀스를 바탕으로 사용자 어플리케이션을 쉽게 개발 가능하며, FPD, Solar-Cell 공정 장비로의 응용도 가능하다.
○ 양산 제조라인에 대한 정보화의 요구 증대로 인하여 예상되는 여러 개념의 새로운 서버와의 연결에도 문제없이 쉽고 유연하게 대응할 수 있도록 FA Bridge를 제공하여 사용자가 쉽게 생성하여 사용하도록 하는 특징을 가진다.
○ 사용자 환경에 알맞은 GUI(Graphic User Interface)를 사용자 스스로 손쉽게 제작할 수 있는 기능도 제공한다.

목차 Contents

• 중소기업기술개발 지원사업 최종보고서 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 요 약 서 (초 록) ... 3
• 목 차 ... 4
• 1. 개발기술의 개요 ... 6
• 1-1 관련 기술의 특성 ... 6
• 1.2. 관련기술의 적용범위 ... 6
• 1.3. 개발기술의 필요성 ... 6
• ○ 연구개발의 목적 ... 6
• ○ 연구개발의 필요성 ... 7
• ○ 기존 기술과의 차별적 장점 ... 7
• 1-2. 국내.외 관련 기술의 현황 ... 9
• □ 해외 관련기술 현황 ... 9
• □ 국내 관련 기술 현황 ... 9
• □ 완료과제 관련 기술개발 현황 ... 9
• 2. 기술개발 목표 및 내용 ... 10
• 2-1. 기술개발 목표 ... 10
• 2-1-1 제조 공정장비의 통합화 ... 10
• 2-1-2. 반도체 공장자동화 ... 11
• 2-1-3. 셀 컨트롤러(Cell Controller) ... 12
• 2.2. 세부 개발내용 및 방법 ... 16
• 2-2-1. 기 확보 관련 기술 ... 16
• 2-2-2. 개발 내용 및 방법 ... 16
• 2-3. 개발실적 ... 20
• 2-3-1. 개발의 최종산물인 반도체 제조장비용 통합 제어시스템 ... 20
• 2-3-2. 개발 결과물 예시 ... 20
• 2-3-3. 자체 평가 결과 ... 25
• 3. 성과요약 및 기대효과 ... 26
• 3-1. 개발성과 요약 ... 26
• □ 개발효과 ... 26
• ○ 기술적 측면 ... 26
• ○ 경제, 산업적 측면 ... 28
• 3-2. 개발된 기술을 활용한 사업화 방안 ... 31
• □ 제품화 계획 ... 31
• □ 양산 및 판로 확보 계획 ... 31
• □ 시장 규모 ... 32
• □ 경쟁제품과의 비교분석 ... 32
• □ 경쟁제품과의 비교분석 ... 32
• □ 사업화 계획 ... 32
• 중소기업기술개발 지원사업 사업비 사용실적보고서 ... 34