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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 산학협력단 Seoul National University |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-05 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 교육과학기술부 Ministry of Education and Science Technology(MEST) |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201300013160 |
과제고유번호 | 1345120215 |
사업명 | 중견연구자지원 |
DB 구축일자 | 2013-07-29 |
키워드 | 나노입자.에어로졸.나노제로그래피.패터닝.마스크.나노소자.nanoparticle.aerosol.nanoxerography.patterning.mask.nanodevice. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201300013160 |
연구의 목적및 내용:
본 나노입자 제어 기술 연구단은 에어로졸 기술을 기반으로 하여 나노물질의 일반적인 조작, 배열, 조립 등을 일컫는 “나노 물질 리소그래피”의 표준기술 개발 및 확립을 목표로 한다. 구체적으로 (1) 새로운 나노입자의 패터닝 방법 개발, (2) 다양한 사이즈 및 형상의 나노입자 어레이를 표면에 관계없이 형성시키는 기술 개발, (3) 나노물질focusing mask 개발, (4) 본 연구의 focused 나노입자 패터닝 기술을 이용하여 다양한 나노소자를 구현한다.
연구결과:
(1) 본 연구단은 에어
Purpose & contents:
We pursue the mastery of generalized standard technology for “Nanomaterial lithography" which includes manipulation, arrangement and assembling of nanomaterials based on aerosol technology. The National CRI Center for Nano Particle Control aims at (1) developing new methods to
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