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NTIS 바로가기주관연구기관 | 세종대학교 Sejone university |
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연구책임자 | 서용호 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-05 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국연구재단 |
등록번호 | TRKO201300035570 |
과제고유번호 | 1345171061 |
사업명 | 신진연구지원사업(연구비지원) |
DB 구축일자 | 2013-12-21 |
본 연구는 원자 분해능으로 그래핀을 원하는 모양으로 패터닝할 수 있는 기술을 확립하는데 목적을 두었다. 일반적으로 사용되는 e-beam 리소그래피 기술이나, 광 리소그라피 기술을 이용하여 패터닝을 할 경우에는 감광용액(Photoresist)을 사용하기 때문에 화학적 오염을 피할 수 없고, 수 나노미터 내외로 선폭을 줄이는 것도 용이하지 않다. 본 연구에서는 유기물의 오염이 없고 선폭을 원자 크기 수준으로 줄일 수 있는 SPM 리소그래피 기술을 이용하여 그래핀 나노소자를 만들고, 이의 전기전도 특성을 연구하였다.
SiO2로 코팅
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