보고서 정보
주관연구기관 |
(주)세미로드 |
연구책임자 |
김홍성
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 |
한국어
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발행년월 | 2013-11 |
과제시작연도 |
2013 |
주관부처 |
중소기업청 |
사업 관리 기관 |
중소기업기술정보진흥원 |
등록번호 |
TRKO201400014288 |
과제고유번호 |
1425085979 |
사업명 |
개별기업기술로드맵지원사업 |
DB 구축일자 |
2014-10-11
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키워드 |
농도계.실시간.고정밀.TMAH.concentration analyzer.real-time.online.
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초록
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본 사업은 분석대상기업의 내․외부 환경분석, 제품분석, 시장분석, 기술분석 등을 통하여 분석대상기술인 ‘차세대 다원 농도측정시스템 개발’에 대한 개별기업 차원의 기술로드맵 작성 및 R&D 과제수행을 위한 자원투입계획수립을 지원하는 사업임.
(주)세미로드는 2007년 01월에 Foundry Service(F/S)와 반도체 재료(Wafer, Target, Chemical), MEMS SiBE Microphone 등 제조·판매를 목적으로 설립되어 현재에 이르고 있는 벤처기업으로, Foundry Service와 Wafer(Materi
본 사업은 분석대상기업의 내․외부 환경분석, 제품분석, 시장분석, 기술분석 등을 통하여 분석대상기술인 ‘차세대 다원 농도측정시스템 개발’에 대한 개별기업 차원의 기술로드맵 작성 및 R&D 과제수행을 위한 자원투입계획수립을 지원하는 사업임.
(주)세미로드는 2007년 01월에 Foundry Service(F/S)와 반도체 재료(Wafer, Target, Chemical), MEMS SiBE Microphone 등 제조·판매를 목적으로 설립되어 현재에 이르고 있는 벤처기업으로, Foundry Service와 Wafer(Material) 및 중고 반도체 장비 유통 등이 주된 사업으로 이루어지고 있고 동사가 종래 보유한 반도체 및 LCD 장비에 사용되는 고정밀 실시간 이원 농도 측정계 기술을 한 단계 업그레이드함으로써 달성 가능한 차세대 다원 농도 측정시스템 개발까지 응용사업화 범위를 대폭 확대시킬 계획으로 있는 등 반도체 및 디스플레이 부문 농도계 분야의 응용기술력을 바탕으로 의욕적인 사업 확장을 꾀하고 있는 기업임. 동 사업은 이러한 사업추진 과정에서 반드시 요구되는 기술로드맵 수립과 전반적인 기술개발계획에 기여하고자 도모된 지원 사업임.
신청기술은 반도체 및 디스플레이 전 공정용 소재(재료)의 농도를 측정하여 선폭변화지수 조절을 통하여 현상 시 CD 조절 및 재사용 현상액의 정확한 농도 control, 선폭 변화 조절, 공정 fail 감소, 비용 감소를 목적으로 하고 있는 차세대 다원 농도 측정시스템에 관한 것으로 표준산업분류코드 “(C29271) 반도체 제조용 기계 제조업에 해당됨.
기업분석을 통해 신청기업의 외부환경과 내부역량을 기업단위에서 종합적으로 살펴본 결과, 신청기업은 신청기술 개발주체로서 개발을 주도할 수 있는 필요 역량을 충분히 갖춘 것으로 진단되었고, 외부환경을 수요/환경/기술적 측면에서 주요 촉진/저해요인으로 구분하여 분석한 결과, 다양한 시장에서 고정밀 농도계 시스템 수요 증가, 저탄소 녹색 성장을 위한 그린에너지지원 정책 추진, 정부의 융 복합(IT/BT/NT) R&D 지원 정책 확대, 주요 부품 센서 산업 육성 방안, 저렴하고 환경 친화적인 재활용 공정 및 장치 개발의 필요성 증대, 농도계의 국산화 개발의 시급성, 주요 부품(센서) 및 알고리즘의 해외 의존도 심화, 센서 산업 생태계 취약, 농도 계측기의 표준화 인식부족, 계측 연구 장비 국산화 개발을 위한 정부 지원 정책 미흡, 전자 계측기 기술 개발력 취약, 기술의 신뢰성 평가를 위한 시험․테스트 지원 기관부재 등이 도출되었음.
제품분석결과, 기업 내·외부 환경 분석의 주요 요인을 반영하여 제품 후보군을 도출하였으며, 그 결과 ①반도체 및 디스플레이 전 공정 장비 탑재용혼합산 에칭액 다원 농도 측정 장치, ②슬러지 인발 주기를 경정할 수 있는 슬러지 계면측정기, ③인쇄기의 현상액 농도 조절 장치를 전략제품 후보군으로 도출되었음. 포트폴리오 분석 결과, 반도체 및 디스플레이 전 공정 장비 탑재용 혼합산 에칭액 다원 농도 측정 장치가 전략제품군으로 선정되었음.
전략제품에 대한 시장분석결과, 신청기술은 현재 성장세에 있는 반도체 및 디스플레이용 전 공정 장비에 탑재되는 고정밀 공정용 소재(재료)의 농도를 측정하는 시스템 시장으로 전방산업의 원가 절감 효과를 크게 기여할 수 있음. 즉 전방산업에서 사용되는 반도체 장비는 고부가가치 산업임에도 불구하고 해외에서 수입하여 사용함으로써 경제적 손실이 막대하게 발생하고 있는 실정이며 또한 반도체 및 LCD 공정에서 사용되는 현상액 용액의 적정한 관리가 미흡하면 현상액 용액의 낭비로 원가 낭비를 가져올 수 있어 이에 대한 대체 제품으로서의 효용가치가 높음.
국내 반도체 및 LCD 공정에서 사용하기 위해서는 성능 검사를 위해 양산라인에서 3개월에서 1년 사이의 Demo test를 거친 후 구매가 이루어지는 시스템을 가지고 있어 관련 시장에서 지속적 경쟁우위를 창출하기 위해서는 첫째는 수요처에 대한 기술적 대응력을 높이고, 둘째는 반도체 및 LCD 공정을 가지는 업체에서 구매가 발생하기 위해 신뢰성 확보를 위한 지속적인 demo test와 데이터베이스 확보가 이루어져야 할 것으로 보임. 이외에도 자사가 보유한 기술을 동종의 타 업체보다 항상 앞서 갈 수 있도록 기술적 대응 전략이 지속적으로 수립되고 이행되어야 할 것임.
기술분석결과, 12개의 세부기술요소 중 ①적합 센서 선정 기술, ②`Through cell 설계 기술, ③센서별 구동 및 측정 회로 설계 기술, ④`RS232/Analog 통신 회로 설계 기술, ⑤측정 환경 및 표준 샘플 구축 기술, ⑥농도계산 알고리즘 추출 기술 ⑦선폭 변화량 관리 기술이 핵심요소기술로 선정됨. 신청기술에 대한 기업 기술수준 분석결과, ①적합 센서 선정 기술, ②Through cell 설계 기술, ③센서별 구동 및 측정 회로 설계 기술, ④`RS232/Analog 통신 회로 설계 기술, ⑤측정 환경 및 표준 샘플 구축 기술, ⑥농도계산 알고리즘 추출 기술 ⑦선폭 변화량 관리 기술 수준은 2성분실시간 농도계 개발을 통한 기초기술을 확보하고 있으나, 다원 농도계를 위해서는 추가적인 기술이 필요한 것으로 평가되며, 이에 따른 기술목표 및 달성방안(투입자원/기간/자체개발계획)을 수립함.
디스플레이 및 반도체 공정에 사용되는 장비가 국산화에 성공하였으나, 이를 구성하는 농도계 등은 아직도 외국 제품에 의존하는 실정으로, 동사는 TMAH 재활용 시스템에 사용되는 2원 농도계 개발에 성공하였으며, 더욱 정확한 농도 측정을 위해서는 3원 농도계 이상의 제품이 추가로 개발되어야 할 것으로 예상됨. 이를 통해 현상공정, Glass Slimming공정 및 식각 공정등에 사용되는 용액의 농도를 정확히 측정함에 따라 디스플레이 및 반도체생산 공정의 안정화에 기여할 것으로 예상됨.
최종적으로 다음과 같이 반도체 및 디스플레이 전 공정 라인에 사용되는 차세대 다원 농도측정시스템 시장·제품 로드맵 및 제품·기술 로드맵을 작성하였음. 시장·제품 로드맵에는 거시적인 마켓 트렌드와 세부 니즈 및 목표시장의 시간대별 변화를 도시하였으며 제품·기술 로드맵에는 시간대별로 목표시장에서 나타날 제품과 해당 제품의 개발에 필요한 핵심요소기술의 변화를 나타냄.
상기와 같이 작성된 시장·제품·기술 로드맵을 바탕으로 신청기업 자체개발 및 컨소시엄 구성을 통해 반도체 및 디스플레이 전 공정 라인에 사용되는 차세대 다원 농도측정시스템 제품 개발을 위한 계획을 도출하여 신규과제기술제안서(RFP)를 수립하고, 향후 4년간의 기술개발계획 및 R&D투자계획을 수립함.
목차 Contents
- 표지 ... 1
- 통 지 문 ... 2
- 제 출 문 ... 3
- 사 업 요 약 서 (초 록) ... 4
- 목 차 ... 9
- 표 차 례 ... 11
- 그림차례 ... 13
- 제1장 기업분석 ... 16
- 제1절 기업현황분석 ... 16
- 1. 기업개요 및 연혁 ... 16
- 제2절 기업의 기술현황분석 ... 19
- 1. 연구개발 인프라 현황 ... 19
- 2. 기술의 개요 ... 21
- 제3절 기업의 외부환경분석 및 내부역량분석 ... 40
- 1. 외부환경분석 ... 40
- 2. 내부역량분석 ... 51
- 제4절 SWOT 분석 및 결과진단 ... 60
- 1. SWOT 분석 ... 60
- 2. 분석결과 및 진단 ... 61
- 제2장 제품 분석 ... 64
- 제1절 전략제품 후보군 분석 및 도출 ... 64
- 제2절 포트폴리오 분석 및 전략제품 선정 ... 70
- 1. 포트폴리오 분석 ... 70
- 2. 전략제품의 선정 ... 72
- 제3절 전략제품 시장 환경 분석 ... 73
- 1. 시장 개요 및 특징 ... 73
- 2. 시장 현황 및 전망 ... 77
- 제4절 전략제품 고객니즈 분석 및 의견 ... 97
- 제3장 기술분석 ... 100
- 제1절 특허분석 ... 100
- 1. 선행특허기술 조사범위 ... 100
- 2. 특허동향분석 ... 101
- 3. 해외 주요 특허분석 ... 106
- 4. 국내 주요 특허분석 ... 108
- 5. 주요특허 비교 분석 ... 110
- 6. 선행기술 검토의견 ... 123
- 제2절 기술속성 및 수요공급체계분석 ... 124
- 제3절 요소기술분석 및 핵심요소기술 선정 ... 126
- 1. 요소기술분석 ... 126
- 2. 기술트렌드 분석 ... 127
- 3. 핵심요소기술 선정 ... 133
- 제4절 기술수준 분석 ... 135
- 제5절 R&D목표 설정 ... 136
- 제4장 로드맵 전개 ... 138
- 제1절 시장·제품·기술 로드맵 ... 138
- 1. 로드맵 전개 프로세스 ... 138
- 2. 단계별 분석 결과 ... 141
- 제2절 시장·제품 R&D로드맵 ... 142
- 제3절 제품·기술 R&D로드맵 ... 143
- 제5장 경영자원확보계획 ... 145
- 제1절 설비투자 계획 ... 145
- 제2절 기술확보 계획 ... 145
- 제3절 제품개발 계획 ... 147
- 제4절 시사점 및 전략적 제언 ... 148
- 참고문헌 ... 151
- 첨부 1 사업계획서 ... 153
- 첨부 2 제안요청서(RFP) ... 167
- 끝페이지 ... 168
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