초록 ▼

1. 최종목표
ALD공정 환경에서 사용되는 알루미늄 부품을 공급하기 위한 적절한 표면처 리 방법의 개발이 필요하며 그 표면처리 방법으로 화학적인 반응계 내에서 일정 시간 동안 안정성을 가질 수 있는 양극산화법(Anodizing)과 이에 적합한 알루미늄 재료 및 내 Crack성을 유지하는 봉공처리법(Pore Sealing) 기술 개발.
2. 개발내용 및 결과
반도체 등 디스플레이용 진공부품에 적용되는 알루미늄 피막형성방법 및 이를 위한 전해액에 관한 것으로, 알루미늄 산화막의 결함으로 작용될 수밖에 없는 금속간 화합물

1. 최종목표
ALD공정 환경에서 사용되는 알루미늄 부품을 공급하기 위한 적절한 표면처 리 방법의 개발이 필요하며 그 표면처리 방법으로 화학적인 반응계 내에서 일정 시간 동안 안정성을 가질 수 있는 양극산화법(Anodizing)과 이에 적합한 알루미늄 재료 및 내 Crack성을 유지하는 봉공처리법(Pore Sealing) 기술 개발.
2. 개발내용 및 결과
반도체 등 디스플레이용 진공부품에 적용되는 알루미늄 피막형성방법 및 이를 위한 전해액에 관한 것으로, 알루미늄 산화막의 결함으로 작용될 수밖에 없는 금속간 화합물을 최소화시킨 순도가 높은 알루미늄을 사용하여 피막 중의 결함발생을 감소시켜고 이 소재에 내 Crack특성 및 내구성을 향상시키기 위한 적합한 전해액과 봉공처리 개발을 주 내용으로 한다.
3. 사업성과
◦ 기술적 성과
가. 특허
1) 양극 산화된 알루미늄 표면의 봉공처리 방법 및 장치(10-1391449)
2) 알루미늄 표면에서 산화알루미늄 피막을 제거하는 방법 및 이를 포함하는 산화알루미늄 피막 재생 방법(10-1362438)
다. 신제품 개발
1) 흑색 염료를 사용하지 않는 흑색 아노다이징 처리기술 개발.
2) 고순도 알루미늄 Non-Crack 표면처리 기술 개발.
◦ 경제적 성과
가. 매출 증대
1) 삼성전자 반도체 PE-ALD Parts 국산화 진행.
2) 삼성디스플레이 CVD장비 표면처리 등록
◦ 사회적 성과
가. 제조그룹 생산파트, 품질파트 직원 채용
4. 기술개발결과 활용계획
가. 대기업반도체업체 수요에 맞는 부품소재 공급(국산화)
나. 국내 반도체 장비 수요처에 적극적 공급
다. 해외 수요처에 홍보.

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 최종보고서 ... 2
• 최종보고 요약서 ... 3
• 목차 ... 5
• 제1장 . 서론 ... 6
• 제 1 절. 연구 내용 ... 6
• 제 2 절. 연구의 필요성 ... 8
• 제 3 절. 내 플라즈마성 표면처리 ... 12
• 제 4 절. 국내 외 기술개발 현황 ... 24
• 제2장 . 과제 개발 내용 및 방법 ... 31
• 제 1 절. 실험적 접근 방법 ... 31
• 제 2 절. 실 험 ... 34
• 제 3 절. 실험결과 및 고찰 ... 41
• 제3장 . 사업 성과 ... 64
• 제 1 절. 기술적 성과 ... 64
• 제 2 절. 경제적 성과 ... 70
• 제4장 . 결 론 ... 71
• 제 1 절. 연구개발 목표 달성도 ... 71
• 제 2 절. 결 론 ... 76
• 제 3 절. 향후 계획 ... 77
• 참고문헌 ... 78
• 끝페이지 ... 79