초록 ▼

○ 유연 폴리머 기판상에서 고밀도 투명 산화물 보호막 제조과정에서 산화물 내 미세결함 생성 억제를 통하여 고밀도 저결함 투명 산화물 보호막 소재 제조기술 개발(투습도 10-3g/m2day 수준 달성)
○ 산화물 보호막의 초박형화와 보호막과 폴리머 계면의 접착력 강화를 통하여 고품위 유연 산화물 소재 개발 (R=10 mm에서 10000회 지속 굽힘 후 투습도 10-2g/m2day수준 유지)
○ 폴리머 기판상에 투명 산화물 나노구조체 직접 성장공정을 통하여 저반사 투명 산화물 구조체 제조 기술 개발 (광투과도 단면: 94%,

○ 유연 폴리머 기판상에서 고밀도 투명 산화물 보호막 제조과정에서 산화물 내 미세결함 생성 억제를 통하여 고밀도 저결함 투명 산화물 보호막 소재 제조기술 개발(투습도 10-3g/m2day 수준 달성)
○ 산화물 보호막의 초박형화와 보호막과 폴리머 계면의 접착력 강화를 통하여 고품위 유연 산화물 소재 개발 (R=10 mm에서 10000회 지속 굽힘 후 투습도 10-2g/m2day수준 유지)
○ 폴리머 기판상에 투명 산화물 나노구조체 직접 성장공정을 통하여 저반사 투명 산화물 구조체 제조 기술 개발 (광투과도 단면: 94%, 양면:96% 도달)

Abstract ▼

IV . Results
Highly dense and low defect SiOx barrier film s were fabricated on flexible and heat-sensitive PET substrates by applying a single-step room-temperature chemical vapor depositio n process and exhibited a extremely low water-vapor permeation level of 10^-3 g/m

IV . Results
Highly dense and low defect SiOx barrier film s were fabricated on flexible and heat-sensitive PET substrates by applying a single-step room-temperature chemical vapor depositio n process and exhibited a extremely low water-vapor permeation level of 10^-3 g/m²day. The barrier films showed stable behavior even after repeated exposure to extreme bending geometries.
The barrier films exhibited a water-vapor permeation level less than 10-2g/m 2day after being bent with a bending radius of 10 m m for 10,000 times.
An antireflective SiOx layer, consisting of a subwavelength periodic pattern of globular-shaped nanoparticle s, increased the transmission of polymer substrates from less than 90% to 94% by red ucing their reflection to a level of less than 1% .