초록 ▼

□ 개발목표
▪ 계 획
LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기 오염물을 동시에 처리하기 위하여 50m/sec의 풍속의 USC와 적정량의 플라즈마를 방출할 수 있는 소형화된 일체화 건식 세정기의 연구 개발
▪ 실 적
플라즈마 애싱을 이용한 광학필름용 Roll-to-Roll 건식초음파 세정기 개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 제진(집진율) 파티클 사이즈 0.3 um 이상 : 계획 (98 %), 실적 (Film 위의 이물질을 플라즈마를 적용한 세정기를 통해 효과적으로 제거하고 제거된 이물

□ 개발목표
▪ 계 획
LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기 오염물을 동시에 처리하기 위하여 50m/sec의 풍속의 USC와 적정량의 플라즈마를 방출할 수 있는 소형화된 일체화 건식 세정기의 연구 개발
▪ 실 적
플라즈마 애싱을 이용한 광학필름용 Roll-to-Roll 건식초음파 세정기 개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 제진(집진율) 파티클 사이즈 0.3 um 이상 : 계획 (98 %), 실적 (Film 위의 이물질을 플라즈마를 적용한 세정기를 통해 효과적으로 제거하고 제거된 이물질의 98% 이상을 집진 할 수 있는 시스템 개발 완료)
2. 소음 : 계획 (80 dB), 실적 (개발 완료하여 제작한 시제품의 성능 TEST 시, 개발 목표치인 80 dB 이하의 소음을 나타내는 시스템 개발 완료)
3. 이송속도 : 계획 (150mm/sec), 실적 (150 mm/sec의 이송속도로 FIlm 위 이물질을 제거하는 시스템 개발 완료)
4. 처리 폭 : 계획 (1500mm), 실적 (다양한 크기의 광학 Film 내 이물질 제거에 적용할 수 있는 세정 처리 폭 (1,500 mm) 을 확보한 세정기 시스템 개발 완료)
5. 최고사용압력 : 계획 (80g/cm2), 실적 (최고압력 사용에도 플라즈마 발생에 영향을 끼치지 않는 세정기 시스템 개발 완료)
6. 헤드정밀도 : 계획 (±0.2mm), 실적 (균질한 플라즈마를 발생시키기 위한 정밀 헤드기구물을 적용한 세정기 시스템 개발 완료)

□ 기대효과
￭ LCD 및 광학 필름 제조에 있어서 표면 유기 오염물 제거 및 밀착력향상을 위한 습식 세정장치와 무기 오염물 제거를 위한 건식 세정 장치가 분리되어 운영되어 오고있었지만 본 연구 개발을 통해 각 각 설치되어 있던 세정장치를 일체화하여 세정효과의 극대화와 더불어 불량률을 크게 낮추어 생산성 향상에 큰 기여를 할 수 있을 것으로 기대됨.
￭ 유·무기 오염물 각 각을 제거하기 위한 시스템을 대체할 수 있는 소형화된 일체식건식 세정기의 연구 개발을 통하여 LCD 및 광학 필름 생산 라인 내 공간적인 문제점을 해결 할 수 있을 것으로 기대됨.
￭ 습식 세정의 가장 큰 문제점으로 제기되고 있는 세정 시간을 획기적으로 줄이기 위한 방법의 하나로 플라즈마(plasma)를 적용한 세정 시스템의 연구 개발로써 유⦁무기 오염물의 동시 제거 그리고 이를 통하여 세정 시간을 획기적으로 줄일 수 있을것으로 기대됨.
￭ LCD 및 광학 필름 위에 존재하는 유·무기 오염물 제거를 위한 기존의 방법으로는 아르곤 또는 질소 가스 등과 같은 불활성 가스가 이용되고 있지만 본 연구 개발에서는 질소 가스의 응용연구뿐만 아니라 대기압에서 Air를 이용할 수 있는 유기 오염물 제거 시스템 연구 개발이므로 환경적 측면뿐만 아니라 경제적 기대효과가 매우 클 것으로 기대됨.

□ 적용분야
￭ 기존의 LCD 및 광학 필름 제조 공정에 있어서 고비용 투자 및 고 유지비용이 필요한 습식 세정기의 대체 장비로서의 활용.
￭ LCD 및 광학 필름 표면의 유기 오염물 제거에 탁월한 적정량의 플라즈마 방출을 통해 습식 세정의 단점을 보완한 플라즈마 이용 건식 세정기로 대체 활용.
￭ LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기 오염물 제거뿐만 아니라 유∙무기 오염물의 제거가 필수인 타 산업 분야에 연구 기술 적용으로 시장 확대 활용.