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NTIS 바로가기주관연구기관 | 나노종합팹센터 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-05 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201500017811 |
과제고유번호 | 1425072796 |
사업명 | 연구장비활용기술개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-11-10 |
키워드 | 엑스선.회절격자.마이크로 가공.대면적.설계. |
□개발목표
계 획
x-선 회절격자의 대면적 제조기술개발을 통하여 x선 회절 grid 및 grating 용 대면적 회절격자구조의 설계 기술과 고투과용 grating 설계 및 제조 기술, 대면적 실리콘MEMS 가공/평가기술, 및 방사선불투과성 물질 매립/평가기술을 개발하는 것이 본 과제의 최종 목표이다.
실 적
1차원/2차원(depth profile 제어)형태의 회절격자 제조 및 2마이크로 pitch 및 1마이크로 이하 pitch의 회절격자제작,전기도금 또는 paste filling 등에 의한 물질 매립기술 개발
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