초록 ▼

* 공기 탈취,살균,정화 장치
1. UV광촉매 탈취 장치
UV + 광촉매 살균 탈취 장치는 고탈취와 고살균에 탁월한 장비로 운영이 간편하고 편리하다.
UV와 광촉매의 반응으로 공기가 정화되는 장치 이다.
• ■ 400nm 이하의 UV파장을 가진 자외선 램프와 광촉매(TiO2)를 일체화 시켜 공기정화에 가장 효과적인 정화 작용제(Purify Agent)를 지속적으로 생산 한다.
• ■ UV의 파장이 광촉매(TiO2)표면에 근접하면 공기 중의 산소(O2)와 물(H2O) 분자가 깨져 광전자와 오존(O3)이 발생

* 공기 탈취,살균,정화 장치
1. UV광촉매 탈취 장치
UV + 광촉매 살균 탈취 장치는 고탈취와 고살균에 탁월한 장비로 운영이 간편하고 편리하다.
UV와 광촉매의 반응으로 공기가 정화되는 장치 이다.
• ■ 400nm 이하의 UV파장을 가진 자외선 램프와 광촉매(TiO2)를 일체화 시켜 공기정화에 가장 효과적인 정화 작용제(Purify Agent)를 지속적으로 생산 한다.
• ■ UV의 파장이 광촉매(TiO2)표면에 근접하면 공기 중의 산소(O2)와 물(H2O) 분자가 깨져 광전자와 오존(O3)이 발생되며. 또한 UV Light는 병원성 세균의 살균에 매우 효과적 이다.
• ■ TiO2 표면에 Band gap 이상의 에너지를 가지는 파장 (λ >380 nm)의 UV를 조사할 경우 TiO2 표면에 전자(electron)는 Valence band에서 Conduction band로 전이가 일어나게 되고 이로 인하여 Valence band에는 Hole 이 생성된다.
• ■ 생성된 전자와 hole 은 TiO2 표면으로 확산 이동하게 된다. TiO2 표면에 흡착된 물이나 OH-과 hole 이 반응하여 OH 라디칼을 생성하기도 하며 수중에 존재하는 산소의 경우에는 전자와 반응하여 O2- 라디칼을 생성하여 더 많은 OH 라디칼을 생성시켜 TiO2 표면의 유기물질 등을 분해하게 되는데 이를 광촉매 반응이라고 한다.
• ■ OH 라디칼과 O2-라디칼은 또한 반응의 중간 생성물로 생성되는 H2O2 에 의하여도 생성된다.
• ■ H2O2, O2, HO2 은 생성된 전자를 소비하여 Recombination을 방지하여 OH 라디칼의 생성을 증가시키며 광촉매 반응에서 생성된 OH 라디칼과 O2- 라디칼은 유기물질을 산화시키는 산화제로 사용된다.
• ■ 광촉매로 사용되고 있는 반도체 재료로는 TiO2, SiO2, ZnO, WO3 등이 있다. 이중 TiO2가 가장 각광받는 이유는 활성도가 높고 가격이 저렴하며 인체에 무해한 물질이며 화학적 안정성을 지니고 있기 때문이다.

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 중소기업 기술개발사업 최종보고서 ... 2
• *공기 탈취,살균,정화 장치 ... 3
• 1. UV광촉매 탈취 장치 ... 3
• 2. 플라즈마 탈취 장치 ... 5
• 복합 탈취 SYSTEM OPERATION & SERVICE MANUAL ... 8
• 복합 탈취 시스템 공정도 ... 11
• PLASMA DEDOR SYSTEM ... 12
• 복합 탈취장치 공정도 ... 13
• 샘플 조립 및 제품 사진 ... 14
• 카본필터 ... 15
• 청정기 도면 ... 16
• 흡연실 도면 ... 17
• 목표달성도 평가지표 ... 22
• 끝페이지 ... 23