초록 ▼

ㅇ 고속 대면적 기능성 후막소재 양산화 기술 보급
·Pilot plant급 장비 및 공정기술
-1100X850mm²급 4각 챔버 코팅장비 제작 및 설치
-코팅층 두께 제어를 위한 3 Feeder system 개발
-기업 대상 대면적 세라믹스 코팅 소개: 한국미래기술교육연구원 세미나 (0625) 및 산업교육연구소 세미나(0818), 유망기술설명회 (1126)
·전고체 리튬이차전지
-현대자동차 의왕연구소 (환경에너지연구팀)과 LLZ 고체전해질 코팅 및 양극활물질 코팅 공동연구 수행:

ㅇ 고속 대면적 기능성 후막소재 양산화 기술 보급
·Pilot plant급 장비 및 공정기술
-1100X850mm²급 4각 챔버 코팅장비 제작 및 설치
-코팅층 두께 제어를 위한 3 Feeder system 개발
-기업 대상 대면적 세라믹스 코팅 소개: 한국미래기술교육연구원 세미나 (0625) 및 산업교육연구소 세미나(0818), 유망기술설명회 (1126)
·전고체 리튬이차전지
-현대자동차 의왕연구소 (환경에너지연구팀)과 LLZ 고체전해질 코팅 및 양극활물질 코팅 공동연구 수행: LLZ전해질 코팅 이온전도도-10^-6S/cm
ㅇ 복합 메조 분말의 양산 기반 구축 및 적용 기술 개발
·Melt-grinding 공정을 이용한 P형, N형 열전 소재 합성 및 후 처리 공정 개발 :
-Bi, Te, Sb 혹은 Se잉곳을 분쇄하고, 분말 용해 후 Bi-Te-Sb(Se)계 열전 소재로 합성. 유성 밀링 장치를 이용하여 분쇄하여 수 1㎛∼10㎛급 열전 분말 제조.
-열전 분말을 분무 건조 후 30∼100㎛급의 원형 과립 분말로 제조. 제조된 과립 분말은 직접 성형 공정을 통하여 판상 소재로 제조하였으며, 성형 후 Hot Press공정을 사용하여 소결
․특수 메조분말 제조 및 응용화 기술개발
-구리도가니에 투입되는 약 700 g 무게의 벌크형태 구리모재를 투입한 후 최대 분말생산량은 약 926.8 g/hr으로 증가. XRD분석 결과, 높은 결정성의 구리분말이 형성되었음

Abstract ▼

Ⅱ. Objectives and Background
This project is for accomplishing industrialization and technology independence by developing a technical whole package of new processing method of functional thick film deposition and making meso-scale powders as well as evaluation and analysis methods of the thick f

Ⅱ. Objectives and Background
This project is for accomplishing industrialization and technology independence by developing a technical whole package of new processing method of functional thick film deposition and making meso-scale powders as well as evaluation and analysis methods of the thick films and powders,which will be transferred to industry.
Ⅲ. Contents and Scope
Large area functional thick films
◦Rectangular type large chamber system
◦3 Feeder system for controlling the film thickness uniformity
Film deposition on 3D shapes
◦Deposition on 3D shape by using a 6 axis robot
Controlling particle characteristics and processing methods for scale-up of meso-scale powders
◦Making meso-scale powders by melt-spray method and flowable granules by spray drying
◦Improved thermoelectric performance of the sintered body by using the granules
◦Increased production speed and yield of Cu meso powder
◦Developing Si nano-scale powders
Technology spread and education
◦Technical short course: 3/yr
◦Technical support : 20/yr
Ⅴ. Future Plan
-Thick film: Deposition efficiency improvement, Transparent film etc.
-Improving performance of the thermoelectric materials and devices
-Scale-up of PAD variables for industrialization

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 보고서 초록 ... 3
• 요약문 ... 4
• SUMMARY ... 5
• CONTENTS ... 6
• 제1장 연구개발과제의 개요 ... 7
• 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 7
• 제3장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 7
• 제1절 상온진공분사 공정에 의한 기능성 후막 대면적화 기술 ... 7
• 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 17
• 제5장 연구개발결과의 활용계획 ... 17
• 제6장 참고문헌 ... 18
• 끝페이지 ... 19