초록 ▼

[1단계] 응용분야/기술개발 범위 구체화
○ 다중 유전율 소재를 적용하기 위한 응용분야 (로직, 메모리, 센서 등) 도출 및 기술개발 범위 구체화
○ 다중 유전율 소재 개발 현황 및 경쟁기술 특허 분석
○ 기술개발 로드맵 및 기술개발 목표 수립

[2단계] 개발계획 수립
○ 제일원리 계산법을 이용하여 유전율 조작이 가능한 창의소재 후보군 도출
○ 유전체 나노소재합성 기술, 나노 복합체 설계 및 제작 기술 분야에서의 원천기술 확보 전략 수립
○ 새로운 연구방법론 활용 (다층구조)

[1단계] 응용분야/기술개발 범위 구체화
○ 다중 유전율 소재를 적용하기 위한 응용분야 (로직, 메모리, 센서 등) 도출 및 기술개발 범위 구체화
○ 다중 유전율 소재 개발 현황 및 경쟁기술 특허 분석
○ 기술개발 로드맵 및 기술개발 목표 수립

[2단계] 개발계획 수립
○ 제일원리 계산법을 이용하여 유전율 조작이 가능한 창의소재 후보군 도출
○ 유전체 나노소재합성 기술, 나노 복합체 설계 및 제작 기술 분야에서의 원천기술 확보 전략 수립
○ 새로운 연구방법론 활용 (다층구조) 및 최첨단 원자층 제어 공정 최적화 전략 수립
○ 다중 유전율 로직 소자 및 소비전력 감소 검증 시스템 개발 전략 수립
○ 다중 유전율 소재를 적용한 새로운 회로 및 아키텍쳐 개발 계획 수립
○ 개발기술의 특허화 전략 수립
○ 최종 개발계획에 기반하여 경쟁력있는 본연구 수행 연구진 구성

Abstract ▼

3. Expected outcomes

◯ Composition of a competitive research team to conduct the research pursuing final goals Materials with electrically modulated permittivity can be used in various emerging semiconductor devices including logic and memory devices. If the materials with electrically modula

3. Expected outcomes

◯ Composition of a competitive research team to conduct the research pursuing final goals Materials with electrically modulated permittivity can be used in various emerging semiconductor devices including logic and memory devices. If the materials with electrically modulated permittivity are discovered through this project, multi-valued logic devices with ultra-low power can be realized.
◯ We will be able to drastically reduce power consumption and increase information density via integrating the materials with electrically modulated permittivity into semiconductor devices. Currently, the world semiconductor market is about 344 billion, among which the global market share of Korean companies in semiconductor industry is 15%. Therefore, it is expected to have a great impact on semiconductor industry.

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 3
• 요약문 ... 4
• SUMMARY ... 10
• CONTENTS ... 12
• 목차 ... 13
• 제1장 先기획연구 개요 ... 14
• 1. 先기획연구의 목적, 필요성 및 범위 ... 14
• 2. 대상 소재기술의 정의 및 개념 ... 17
• 제2장 기술개발 현황 및 조사·분석 ... 19
• 1. 국내·외 기술개발 현황 ... 19
• 2. 선행 연구 조사·분석 및 시사점 ... 21
• 제3장 기술개발 목표 및 내용 ... 30
• 1. 원천특허 포트폴리오 ... 30
• 2. 연구개발내용 및 범위 ... 33
• 3. 기존 기술과의 차별성 및 원천성 ... 35
• 4. 국가 소재 R&D 전략과의 연계성 및 부합성 ... 36
• 5. 先연구내용 및 결과 ... 36
• 제4장 先기획연구 활동 추진 내용 ... 40
• 1. 先기획연구 추진체계 ... 40
• 2. 先기획연구 방법론 ... 43
• 3. 先기획연구 활동내용 ... 44
• 제5장 기대성과 및 활용계획 ... 48
• 1. 기대성과 ... 48
• 2. 상용화 예상 분야 ... 48
• 3. 경제성 분석 ... 49
• 끝페이지 ... 49