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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 이원범 |
참여연구자 | 민성욱 , 이경희 , 조균택 |
보고서유형 | 연차보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-01 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 미래창조과학부 KA |
사업 관리 기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO201600001811 |
과제고유번호 | 1711034394 |
DB 구축일자 | 2016-05-21 |
키워드 | 질화,표면처리,질화 포텐셜,가스,화합물층nitriding,surface treatment,nitriding potential,gas,compound layer |
2. 개발결과 요약
□ 핵심기술
질화용 가스제어를 통한 질화포텐셜 제어
□ 개발의 목표
◦ 다양한 질화공정 변수에 따른 DB 구축 및 이를 통한 제어질화 공정기술 개발(NH3, N2, CO2 가스비 및 온도에 따른 질화구동 해석)
□ 개발내용 및 결과
□ 로내 가스량에 따른 분위기
◦ 연질화에서 CO2의 증가량에 따른 로내 분위기 결과
그림에서 보듯이 CO2를 약 3% 집어넣는 순간부터 H2의 값이 감소하여 약 20분후에는 17.6%까지 감소하였으며 그 이후 약 16.9%까지
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