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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)이넥트론 |
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연구책임자 | 김동규 |
참여연구자 | 이용문 , 황영찬 , 정철원 , 이동제 , 이재형 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2013-05 |
과제시작연도 | 2012 |
주관부처 | 산업통상자원부 Ministry of Trade, Industry and Energy |
등록번호 | TRKO201700007004 |
과제고유번호 | 1415124917 |
사업명 | 산업집적지경쟁력강화사업 |
DB 구축일자 | 2017-10-12 |
키워드 | 대기압.플라즈마.고해상.회로 패턴.SAP. |
1. 최종목표
Package 회로 형성 SAP(Semi Additive Process)에 대응 가능한 양면처리용 대기압 플라즈마 장치 및 공정개발
- DBD Type 1Kw 급 플라즈마 전용 회로 개발
- 전극의 온도상승을 제어 할 수 있는 공냉식 전극시스템 개발
〇환경유해 가스를 사용하지 않으며 무전해 동도금 층과 DFR과의 접착강도(Peel strength) 향상, 0.1T이하 박판을 5m/ min. 이상의 공정속도로 연속생산이 가능한 박판 양면처리용 대기압 플라즈마 장치 및 공정개발
2. 개발
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