초록 ▼

양성자가속기연구센터에서는 지난 10년간 양성자기반공학기술개발사업을 통해 대용량 양성자가속장치를 개발하고 이를 이용한 빔 이용기술을 개발하였다. 10년여에 걸친 연구개발 과정을 통해 가속장치기술에 대한 파생기술로서 저에너지 이온가속기 응용기술을 확보하였으며, 그 중 양성자 가속기 입사기 기술에서 파생된 여러 가지 형태의 대전류 이온원 장치기술을 확보하였다.

본 과제에서는 센터보유 대전류 이온원 기술을 이용하여 코팅공정에 접목함으로서 Hybrid 박막증착장치 및 복합공정개발을 통한 기초원천 기술을 확보할 것이다. 이온빔을

양성자가속기연구센터에서는 지난 10년간 양성자기반공학기술개발사업을 통해 대용량 양성자가속장치를 개발하고 이를 이용한 빔 이용기술을 개발하였다. 10년여에 걸친 연구개발 과정을 통해 가속장치기술에 대한 파생기술로서 저에너지 이온가속기 응용기술을 확보하였으며, 그 중 양성자 가속기 입사기 기술에서 파생된 여러 가지 형태의 대전류 이온원 장치기술을 확보하였다.

본 과제에서는 센터보유 대전류 이온원 기술을 이용하여 코팅공정에 접목함으로서 Hybrid 박막증착장치 및 복합공정개발을 통한 기초원천 기술을 확보할 것이다. 이온빔을 이용한 코팅공정으로는 IBED(Ion Beam Enhanced Deposition), IBM(Ion Beam Mixing), IBAD(Ion Beam Assisted Deposition), IBSD(Ion Beam Sputter Deposition) 등이 있으며 선진국을 중심으로 활발한 연구개발이 이루어지고 있는 실정이나, 국내에서는 기초기반연구가 부족한 실정이다. 따라서 본 과제에서는 기존 코팅공정의 한계인 합금박막 합성, 낮은 증착율, 박막 밀착력 문제 등을 해결하기 위하여 IBSD(Ion Beam Sputter Deposition)법을 활용한 합금 박막 합성 등의 신공정을 개발하여 기초원천기술을 확보하여 산업 적용 연구 기반을 구축하고자 한다.

(출처: 서지정보양식 초록 p.38)

Abstract ▼

Korea Multi Purpose Accelerator Complex developed a proton-proton accelerator and beam utilization technologies through the last 10 years based Proton Engineering Frontier Project. Through the research and development over 10 years, we obtained a low-energy ion beam application technology derived f

Korea Multi Purpose Accelerator Complex developed a proton-proton accelerator and beam utilization technologies through the last 10 years based Proton Engineering Frontier Project. Through the research and development over 10 years, we obtained a low-energy ion beam application technology derived from the acceleratortechnology, and also we obtained various types of high-current ion source device technology derived from ion source of proton Accelerator. This Project will obtain he core technology by combining the coating process with our high-current ion source device technology. The coating process using an ion beam were a IBED (Ion Beam Enhanced Deposition), IBM (Ion Beam Mixing), IBAD (Ion Beam Assisted Deposition), IBSD (Ion Beam Sputter Deposition) etc. These technology has developed by active research and development in advanced country, but domestic country is lacking a foundation based research. In this project, to solve the problem of alloy coating, low deposition rate, low adhesion of the conventional coating process, we will develop the new coating process by using Ion Beam Sputter Deposition. As a result, we will obtained the core technology and apply the industrial applications.

(출처:BIBLIOGRAPHIC INFORMATION SHEET Abstract p.39)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 2
• 요약문 ... 3
• SUMMARY ... 6
• CONTENTS ... 9
• 목차 ... 10
• 표목차 ... 11
• 그림목차 ... 12
• 제1장 서 론 ... 13
• 제1절 연구개발의 최종목표 ... 13
• 제2절 연구개발의 필요성 ... 13
• 제3절 연차별 연구개발 내용 및 범위 ... 14
• 제2장 국내외 연구개발 현황 ... 15
• 제1절 국외 연구개발 동향 ... 15
• 제2절 국내 연구개발 동향 ... 16
• 제3장 연구개발 수행내용 및 결과 ... 17
• 제1절 IBSD 공정개발 ... 17
• 1. IBSD 장치 설계 및 제작 ... 17
• 2. IBSD법에 의한 합금박막 증착 ... 20
• 제2절 Hybrid 코팅장치 개발 ... 26
• 1. Hybrid 코팅장치 설계 및 제작 ... 26
• 제3절 박막 밀착력 개선 ... 30
• 1. IBSD공정에 의한 STS304, Cr 박막 밀착력 분석 ... 30
• 2. Hybrid 코팅공정에 의한 계면효과 분석 ... 31
• 3. Hybrid 코팅공정에 의한 밀착력 분석 ... 32
• 제4장 연구개발목표 달성도 및 대외기여도 ... 34
• 제1절 연구개발목표 대비 달성도 ... 34
• 제2절 관련분야의 기여도 ... 35
• 제5장 연구개발결과의 활용계획 ... 36
• 제6장 참고문헌 ... 37
• 서지정보양식 ... 38
• BIBLIOGRAPHIC INFORMATION SHEET ... 39
• 끝페이지 ... 39