초록 ▼

- 메타포토레지스트 개발 및 70 nm급 대면적 (4인치 웨이퍼 레벨) 나노리소그래피 기술 개발.
- 쌍곡선 메타물질 개발 및 이를 이용한 70 nm 급 나노이미징 기술 개발.
- Digital Micromirror Device(DMD)을 이용한 자외선용 무마스크 리소그래피 시스템을 구축 및 이를 이용한 기능성 광섬유 프로브 개발.
- 다양한 메타물질 및 플라즈모닉 기반 바이오 응용 기술 개발.
- 자외선에서 작동하는 고충진률(원형: 85%이상, 육각형: 90%이상) 및 무반사(1%이하) 마이크로줌렌즈 어레이를

- 메타포토레지스트 개발 및 70 nm급 대면적 (4인치 웨이퍼 레벨) 나노리소그래피 기술 개발.
- 쌍곡선 메타물질 개발 및 이를 이용한 70 nm 급 나노이미징 기술 개발.
- Digital Micromirror Device(DMD)을 이용한 자외선용 무마스크 리소그래피 시스템을 구축 및 이를 이용한 기능성 광섬유 프로브 개발.
- 다양한 메타물질 및 플라즈모닉 기반 바이오 응용 기술 개발.
- 자외선에서 작동하는 고충진률(원형: 85%이상, 육각형: 90%이상) 및 무반사(1%이하) 마이크로줌렌즈 어레이를 제작 및 공정 최적화함.
- 나노플라즈모닉 폴리머 마이크로팁 어레이를 이용한 200 nm급 대면적 나노리소그래피 구현.
- 저손실 은 나노구조 메타물질 개발 및 나노리소그래피 특성 평가. 150 nm 선폭 대면적 구현.
- 전자빔 리소그래피 기반 나노렌즈 및 대면적(5인치 이상) 나노 포토마스크 제작 기술 확보.
(출처:요약서 3p)

Abstract ▼

Ⅰ. Title
Largescale and ultrafast nanolithographic systems using metamaterial based lens array

Ⅱ. Objective and Necessity of Research and Development
1. Final objective : Development of large-area, ultrafast imaging lithography platform and metamaterial based high-resolution nanolens ar

Ⅰ. Title
Largescale and ultrafast nanolithographic systems using metamaterial based lens array

Ⅱ. Objective and Necessity of Research and Development
1. Final objective : Development of large-area, ultrafast imaging lithography platform and metamaterial based high-resolution nanolens arrays for sub-70nm compact, low-cost next generation lithography system.
- Step 1 : development of UV, highly integrated plasmonic nanolens 4x4 array based sub-200nm ultrafast nanolithography platform.
- Step 2 : development of imaging metalens arrays for UV light based nanolithography and development of large-area ultrafast nanolithography platform.
2. Necessity of Research and Development : The nanotechology is applied to various fields such as medical, energy, information and communication industry. Conventional nanolithography technologies have limitations for fabrication of nanostructures with high resolution, large scale, and low cost. Conventional limitations should be overcome to apply the various industry fields. The development of next generation nanolithography system based on metamaterials is needed to overcome conventional limitations.

Ⅲ. Contents and Scope of Research and Development
- Development of 70 nm nanolithography based on metaphotoresist.
- Development of nanoimaging based on metal/dielectric hyperbolic metamaterial.
- Development of maskless lithography system and functional optical fiber probe.
- Development of bioapplication techniques using metamaterials and plasmonic structures.
- Development of plasmonic zoom lens techniques.

Ⅳ. Results of Research and Development
- Realization of 70 nm nanolithography on a 4 inch wafer level by using the metaphotoresist.
- Development of fabrication techniques of 5 inch photomask for nanolithography using electron beam lithography.
- Realization of sub-diffraction limited nanoimaging by using the hyperbolic metamaterial.
- Development of maskless ultraviolet lithography system using digital micromirror device (DMD). Development of functional optical fibers with 2 or 3 dimensional photonic structures by using the maskless lithography system.
- Development of biosensor with high sensitivity using silicon metamaterial.
- Development of separation and detection of biomolecule using plasmonic paper.
- Fabrication and optimization of micro zoom lens arays with high filling factor(circular type:>85%, hexagonal type:>90%) and antireflection(<1%) for UV.
- 200 nm large area nanolithography by using nanoplasmonic polymer microtip arrays.

Ⅴ. Application plans of Results
- Foundry service of metaphotoresist based nanolithography.
- Fabrication of metamaterial baed photomask for large area nanolithography
- Application of functional optical fiber to miniaturized medical devices such as endoscope.
(출처:SUMMARY 6~7p)

목차 Contents

• 표지 ... 1제 출 문 ... 2보고서 요약서 ... 3요 약 문 ... 4SUMMARY ... 6CONTENTS ... 8목차 ... 9제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 10 제 1 절 나노리소그래피의 젓요성 ... 10 제 2 절 기존 나노리소그래피의 한계 ... 10 제 3 절 메타물질기반 광학 렌즈 개발의 필요성 ... 10 제 4 절 광학 이미징 시스템의 시장규모와 본 연구의 파급효과 ... 11제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 12 제 1 절 국내 기술개발 현황 ... 12 제 2 절 국외 기술개발 현황 ... 13제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 15 제 1 절 메타포토레지스트기반 나노리소그래피 기술 개발 ... 15 제 2 절 메타물질기반 나노이미징 기술 개발 ... 33 제 3 절 SLM기반 무마스크 리소그래피 시스템 개발 및 기능성 광섬유 프로브 개발 ... 45 제 4 절 메타물질 및 나노플라즈모닉 구조 기반 바이오 응용기술개발 ... 63 제 5 절 플라즈모닉 마이크로 줌렌즈 기술 개발 ... 97제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 117 제 1 절 연도별 연구개발목표의 달성도 ... 117 제 2 절 관련분야의 기술발전에의 기여도 ... 127제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 129제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 131제 7 장 참고문헌 ... 133제 8 장 수정 및 보완 사항 ... 135끝페이지 ... 140