초록 ▼

○ Hydro-resistant film 성막 기술을 활용한 우주환경모사 극고진공 시스템 개발
- 진공소재 표면에 수분의 흡착 억제 및 내부수소의 확산방출 억제를 위한 깨끗하고 치밀한 표면층인 hydro-resistant film 형성 기술 최적화 (대용량화)
- 중형 우주환경모사 극고진공 시스템 제작 기술 개발하여 용량 1000 리터 급의 시제품 개발 완료함

○ 반도체/디스플레이 제조용 고청정 가스 공급관 제작 기술 개발
- 진공소재 표면 경면처리 기술 및 hydro-resistant film 형성 기

○ Hydro-resistant film 성막 기술을 활용한 우주환경모사 극고진공 시스템 개발
- 진공소재 표면에 수분의 흡착 억제 및 내부수소의 확산방출 억제를 위한 깨끗하고 치밀한 표면층인 hydro-resistant film 형성 기술 최적화 (대용량화)
- 중형 우주환경모사 극고진공 시스템 제작 기술 개발하여 용량 1000 리터 급의 시제품 개발 완료함

○ 반도체/디스플레이 제조용 고청정 가스 공급관 제작 기술 개발
- 진공소재 표면 경면처리 기술 및 hydro-resistant film 형성 기술 최적화 (도관)
- 길이 3 m 급의 고청정 가스 공급관 제작 기술 개발 완료함

○ 저비용 초고진공 쇼트키 전자총 제작 기술 개발
- 초고진공 연강 쇼트키 전자총 시작품 제작 완료함

○ 초고진공으로의 빠른 회복 가능한 진공소재 특성 활용한 정밀 표면 실험
- 극한상황에서 제작하는 나노, 마이크로 단위의 소재 소자에 대한 국부적인 화학적 성분, 구조, 화학적 상태, 전자구조를 분석에 활용함

(출처 : 보고서 요약서 3p)

Abstract ▼

II. Research needs and objectives
o In this project, we will develop hydro-resistant film coated vacuum materials for extreme high vacuum and high energy environment.

o This high quality vacuum materials can be applied to the simulated system of the space environment for new material synth

II. Research needs and objectives
o In this project, we will develop hydro-resistant film coated vacuum materials for extreme high vacuum and high energy environment.

o This high quality vacuum materials can be applied to the simulated system of the space environment for new material synthesis and to the vacuum system for the next generation accelerators.

o Furthermore, this material can be alternatives of higher value-added vacuum components used in the semiconductor production processes and a low cost scanning electron microscope.

III. Research scope
The main methods for developing the high quality vacuum materials are as follows.
o Development of a middle-sized extreme high vacuum system using hydro-resistant film formation methode

o Development of a ultra high purity gas tube for semiconductor production process

o Development of a low cost field emission SEM using mild steel vacuum chamber

IV. Research results
o Development of a middle-sized extreme high vacuum system using hydro-resistant film formation methode (ultimate pressure < 1E-12 mbar, outgassing rate < 2E-14 mbar l/s cm^2, size ~ 1000 liter)

o Development of a ultra high purity gas tube for semiconductor production process (Surface roughness Ra < 40 nm, no ion elution, passivation layer thickness > 2 nm, CrO/FeO > 2, oil contamination < 0.1 ppm)

o Development of a low cost field emission SEM using mild steel vacuum chamber (pressure < 1E-9 mbar, emission current > 200 uA, current stability < 5%/h)

o Surface analysis of nano(micron) sized materials using ultra fast recovery time to ultra high vacuum.

V. Application plan
o We expect that the developed high quality vacuum materials be used for the alternatives of higher value-added vacuum components in the semiconductor production processes as well as the tangible results such as low cost ultra high vacuum field emission SEM, establishing vacuum equipments for the simulated system of the space environment for new material synthesis and vacuum chambers for the next generation accelerators.

(출처 : SUMMARY 6p)

목차 Contents

• 표지 ... 1제 출 문 ... 2보고서 요약서 ... 3요 약 문 ... 4SUMMARY ... 6CONTENTS ... 8목차 ... 9제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 10 가. 연구개발의 목적 ... 10 나. 연구개발의 필요성 ... 10제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 14제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 21 가. 극고진공 소재 처리 및 시스템 제작 기술 ... 21 나. 초고진공 전계방출 전자총 제작 기술 ... 40제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 57제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ... 58 가. 극고진공 소재 처리 및 시스템 제작 기술 ... 58 나. 초고진공 전계방출 전자총 제작 기술 ... 58제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 59 가. 극고진공 소재 처리 및 시스템 제작 기술 ... 59 나. 초고진공 전계방출 전자총 제작 기술 ... 59제 7 장 참고문헌 ... 60끝페이지 ... 61