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NTIS 바로가기주관연구기관 | 나노종합기술원 |
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연구책임자 | 안치원 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-06 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201700013433 |
과제고유번호 | 1345236771 |
사업명 | 이공학개인기초연구지원 |
DB 구축일자 | 2017-11-13 |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201700013433 |
1) SiN membrane chip 제작
마이크로 크기로 패턴닝된 박막히터가 내장된 전기적 측정용 맴브레인 칩을 제작하기 위하여 SiN 멤브레인 chip을 제작하였다. LPCVD를 이용하여 실리콘 웨이퍼 위에 비정질의 low stress SiN 을 50 nm 두께로 증착하고 photo-lithography와 RIE 공정을 이용하여 Si wet etch를 위한 window 공간을 형성한다.
2) Graphene membrane chip 제작
2차원 결정(2D crystal)인 그래핀을 이용한 전기장에 따른 나
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