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NTIS 바로가기주관연구기관 | 전북대학교 Chonbuk National University |
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연구책임자 | 이명훈 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2016-11 |
과제시작연도 | 2015 |
주관부처 | 미래창조과학부 Ministry of Science, ICT and Future Planning |
등록번호 | TRKO201700014732 |
과제고유번호 | 1345239903 |
사업명 | 이공학개인기초연구지원 |
DB 구축일자 | 2017-11-13 |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201700014732 |
HAB-6FDA PI, 수직배향측쇄 “DOBPEO”와 광반응측쇄 “4-HEC”를 각각 합성하여 HAB-6FDA PI에 DOBPEO와 4-HEC가 3:7, 5:5, 7:3, 9:1의 비율로 grafting된 4종의 PI-DO-Calignment layer를 합성하였다. 4종의 PI-DO-C 모두 200℃까지 뛰어난 열안정성을 보였으며, DOBPEO가 50%이상 grafting된 PI-DO50-C50, PI-DO70-C30, PI-DO90-C10의 경우 소자에 배향막으로 적용하였을 때 액정을 수직배향시켰고, 400 ~ 700nm 파장영
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