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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 최경철 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-10 |
과제시작연도 | 2016 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201800002805 |
과제고유번호 | 1711036755 |
사업명 | 개인연구지원 |
DB 구축일자 | 2018-04-14 |
키워드 | 차세대 리소그래피.나노 구조 패터닝.플라즈모닉 리소그래피.표면 플라즈몬.나노 리소그래피.Next generation lithography.Nano structure pattering.Plasmonic lithography.Surface plasmon.Nano lithography. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201800002805 |
연구의 목적 및 내용
포토리소그래피는 회절 한계(diffraction limit)에 의해 발생하는 분해능의 한계(resolution limit)가 큰 문제점 중 하나이다. 본 연구는 분해능의 한계를 해결하는 방법 중 하나인 표면 플라즈몬(surface plasmon)을 활용한 포토리소그래피를 실제 구조로 구현하고 실제 공정에 적용될 시 고려되어야 하는 요소들에 대해 분석하는 것과 단위 소자에 적용하는 것이 주목적이다. 표면 플라즈몬을 실제 공정에 적용하기 위하여 finite differential time domain(FDTD
Purpose&contents
Photolithography is one of the problems of its own limitations in the resolution caused by the diffraction limit. In this study, the photolithography using surface plasmon, which is one of the methods to solve the resolution limit, is implemented as a real structure, and it is th
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