초록 ▼

□기술 개요
과제명 파이로 시스템 및 파이로공정 실증기술

기술현황
사용후핵연료는 높은 방사선과 열을 방출하는 고준위 방사성 물질이면서도 재사용이 가능한 우라늄을 함유하고 있는 중요한 에너지 자원이기도 함. 이러한 자원의 재활용을 위해 사용후핵연료의 부피 및 발열량을 획기적으로 저감시키면서 플루토늄을 따로 분리하지 않고 TRU를 회수, 재활용하는 핵확산 저항성이 매우 높은 Pyroprocess 기술이 환경친화적인 핵연료주기기술로 부각되고 있음

□기술 동향
주요시장국 출원동향
연도별 전체

□기술 개요
과제명 파이로 시스템 및 파이로공정 실증기술

기술현황
사용후핵연료는 높은 방사선과 열을 방출하는 고준위 방사성 물질이면서도 재사용이 가능한 우라늄을 함유하고 있는 중요한 에너지 자원이기도 함. 이러한 자원의 재활용을 위해 사용후핵연료의 부피 및 발열량을 획기적으로 저감시키면서 플루토늄을 따로 분리하지 않고 TRU를 회수, 재활용하는 핵확산 저항성이 매우 높은 Pyroprocess 기술이 환경친화적인 핵연료주기기술로 부각되고 있음

□기술 동향
주요시장국 출원동향
연도별 전체 특허동향을 살펴보면, 1990년대 초반부터 2004년까지는 일본이 본 기술분야를 주도하고 있으나 2004년 이후로는 조사대상국 전체가 비슷한 경향으로 빠른 증가추세를 보이며 2010년~2012년 사이 가장 활발한 출원활동을 나타냄. 한국은 1995년부터 관련 기술의 특허활동을 나타내기 시작하였고, 2006년 이후로는 조사대상 국가 중 가장 활발한 출원활동을 하고 있으며, 최근 2012년~2014년에 가장 활발한 출원활동을 하고 있는 것으로 조사됨

내외국인 출원현황
미국의 외국인 출원 비중을 살펴보면, 외국인 비중이 43%로 높게 나타나고 있음. 본 기술분야에서 내외국인 모두 미국을 주요 시장으로 보고 미국에서 지재권 확보를 위한 활동을 활발히 하고 있는 것으로 판단됨
한국 및 일본의 외국인 출원 비중을 살펴보면, 미국 국적의 출원인의 비중이 높은 것으로 볼 때, 미국 국적 출원인들의 경우 자국 중심의 특허출원 활동을 활발하게하면서 한국, 일본, 유럽 등 해외 시장 진출을 염두에 둔 출원도 활발히 진행하고 있는 것으로 분석됨

기술시장 성장단계
IP 포트폴리오로 나타낸 한국특허의 기술위치는 성장기 단계임
미국특허의 기술위치는 성숙기에 접어들고 있는 것으로 판단됨
일본의 기술위치는 시기적으로, 양적으로 가장 빠른 성장을 했다가 분석구간 1구간(1995년~1999년) ~ 3구간(2005년~2009년) 쇠퇴기에 들어섰다가 3구간(2005년~2009년) ~ 4구간(2010년~2014년) 사이의 양상으로는 성숙기 단계인 것으로 판단되나 정확한 양상을 알기 위해서는 이후 출원동향을 모니터링해야 할 것임
유럽은 출원건수가 매우 적어 기술위치를 판단하기에는 어려움이 있음

경쟁자 LandScape
기술 개발 과제의 주요출원인 Top20를 추출한 결과, 한국원자력연구원|한국수력원자력(주)이 전체 다출원인 1위로 나타났으며, 그 뒤를 이어 일본의 TOSHIBA와 HITACHI 등이 이 분야에서 다수의 특허를 출원하고 있는 것으로 나타남. 특히 주요출원인 Top20 중 일본 국적의 출원인이 10명으로 다수 조사되었으나 최근5년 출원증가율을 살펴보면, HITACHI GE NUCLEAR ENERGY와 TOSHIBA를 제외하고 모두 출원활동이 이전 5년보다 감소하는 것으로 나타남
최근5년 증가율로 살펴본 결과, 미국 주요출원인들과 한국원자력연구원이 지난 5년보다 최근 5년의 출원활동이 매우 활발한 것으로 나타남

세부기술 특허가치
특허가치평가 결과 『파이로 시스템 및 파이로공정 실증기술』 분야는 중분류 기술 중 파이로 공정자동화 기술개발(BE), 파이로공정 안전조치 기술(AC), 파이로 전해환원공정 기술개발(BB) 등 순으로 특허가치가 높은 것으로 나타났음

□기술적 유망성
IP부상도
매우낮음 낮음 보통 높음 매우높음
특허평가지표는 3점으로 IP부상도가 보통으로 평가됨

IP장벽도
매우높음 높음 보통 낮음 매우낮음
국내외를 함께 평가하여 낮음으로 평가되었으나 기술분야별로 국외는 보통 ~ 높음이 많았고 국내는 한국원자력연구원이 본 기술분야를 주도하고 있어 IP장벽도 평가에서 제외하면 국내 IP 장벽도는 낮음으로 평가됨
※ 본 특허동향조사를 의뢰한 한국원자력연구원의 특허는 유사선행기술의 유사도 또는 경쟁력에 따라 평가되는 IP장벽도 분석에서 제외시킴

종합결론
매우낮음 낮음 보통 높음 매우높음
모든 지표들이 다소 상승하고 있는 것으로 보아 최근 주목을 받고 있는 분야로 판단되며, 아직까지 확실한 특허장벽이 구축되지 않아 핵심 기술개발과 그에 따른 핵심 지재권 확보가 가능할 것으로 판단됨. 지속적인 연구개발과 핵심 지재권 확보 및 해외시장 선점을 위한 적극적 권리화가 필요할 것으로 판단됨

(출처 : 요약 5p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제출문 ... 3
• 요약 ... 5
• 목차 ... 7
• I. 개요 ... 9
• 1. 분석 배경 및 목적 ... 11
• 1-1. 분석 배경 ... 11
• 1-2. 분석 목적 ... 11
• 2. 분석 범위 ... 12
• 2-1. 분석대상 특허 검색 DB 및 검색범위 ... 12
• 2-2. 분석대상 기술 및 검색식 도출 ... 13
• 2-3. 유효특허 선별 기준 및 결과 ... 26
• 2-4. 특허기술동향조사 분석 방법 ... 30
• II. IP부상도 분석 ... 31
• 1. 국가별 LandScape ... 33
• 1-1. 주요시장국 기술개발 활동현황 ... 33
• 1-2. 기술시장 성장단계 파악 ... 39
• 2. 경쟁자 LandScape ... 42
• 3. IP 부상도 분석 ... 45
• 3-1. 출원증가율 분석 ... 45
• 3-2. 최근 구간 점유율 분석 ... 49
• 3-3. 특허 시장확보력 분석 ... 51
• 3-4. IP 부상도 종합 결론 ... 53
• 4. 세부기술 분석 ... 54
• 4-1. 세부기술별 특허가치 분석 ... 54
• 4-2. 세부기술별 연도별 출원현황 분석 ... 57
• III. IP장벽도 분석 ... 59
• 1. IP장벽도 및 기술경쟁력 분석 ... 61
• 2. IP장벽도 종합 분석 결과 ... 132
• IV. 특허분석 결론 및 시사점 ... 133
• 1. 특허분석 결론 ... 135
• 2. 특허분석 시사점 ... 143
• 끝페이지 ... 146