초록 ▼

□ 개발목표
- 계획 : 박막태양전지용 ZnO In-line Sputtering Coating System 상품화
- 실적 : 기술개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 투명전도막의 면저항
- 계획 : ≤ 7 Ω/cm²
- 실적 : ≤ 5 Ω/cm²
2. 투명전도막의 두께
- 계획 : 1,500 nm
- 실적 : 1,500 nm
3. 투명전도막의 투과율
- 계획 : ≥ 80 %
- 실적 : ≥ 80 %

□ 개발목표
- 계획 : 박막태양전지용 ZnO In-line Sputtering Coating System 상품화
- 실적 : 기술개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 투명전도막의 면저항
- 계획 : ≤ 7 Ω/cm²
- 실적 : ≤ 5 Ω/cm²
2. 투명전도막의 두께
- 계획 : 1,500 nm
- 실적 : 1,500 nm
3. 투명전도막의 투과율
- 계획 : ≥ 80 %
- 실적 : ≥ 80 %
4. 투명전도막의 내열성
- 계획 : ≤ ± 5 % (Ω/cm²)
- 실적 : < ±1 % 100
5. 투명전도막의 증착율
- 계획 : 200 nm/min
- 실적 : ≥ 337 nm/min
6. 투명전도막의 증착 온도
- 계획 : ≤ 200 ℃
- 실적 : ≤ 160 ℃
7. 투명전도막의 균일도
- 계획 : ≤ ± 5
- 실적 : ≤ ± 4
8. 기판의 크기
- 계획 : 21,450 cm²
- 실적 : 21,450 cm²
9. 투명전도막의 전하이동도
- 계획 : > 13 cm²/Vs
- 실적 : > 20 cm²/Vs
10. 투명전도막의 전하농도
- 계획 : > 10²⁰ cm^-3
- 실적 : ≥ 3.73×10²⁰ cm^-3
11. 스퍼터링 타겟폭
- 계획 : 30 cm
- 실적 : 30 cm

□ 기대효과
◦ 캐리어 tact time 60초에 doped ZnO 코팅된 65×165 cm² 유리기판 2장을 생산할 수 있는 In-line Sputtering System이면, 년간 864,000장을 생산할 수 있는 능력으로 65×165 cm² 기준으로 에너지변환 효율 13%을 고려하면 110 MWp급의 생산용 In-line Sputtering System를 상품화 및 기술개발.
◦ 특허등록을 통한 지적재산권 확보 및 논문 발표를 통해 국내․외적으로 기술 경쟁력 우위 확보 및 기술 홍보 효과가 기대됨.
◦ In-line Sputtering Coating System을 상품화하여 국내 박막형태양전지 제조 Maker에 공급함으로써 외국사 대비 국내 관련 Maker 제품들의 기술우위로 수출 경쟁력 증대가 예상되며 또한 수입대체 효과 및 수출효과가 기대됨.

□ 적용분야
◦ CIGS 박막태양전지용 상부 투명전극에 적용

(출처 : 요약서 4p)