초록 ▼

□ 개발목표
- 계획 : LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기오염물을 동시에 처리하기 위하여 50m/sec의 풍속의 USC와 적정량의 플라즈마를 방출할 수 있는 소형화된 일체화 건식 세정기의 연구 개발
- 실적 : 플라즈마 애싱을 이용한 광학필름용 Roll-to-Roll 건식초음파 세정기 개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 제진(집진율)파티클 사이즈 0.3 um 이상
- 계획 : 98 %
- 실적 : Film 위의 이물질을 플라즈마를 적용한 세정기를 통해 효과적으로 제거하고 제거된

□ 개발목표
- 계획 : LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기오염물을 동시에 처리하기 위하여 50m/sec의 풍속의 USC와 적정량의 플라즈마를 방출할 수 있는 소형화된 일체화 건식 세정기의 연구 개발
- 실적 : 플라즈마 애싱을 이용한 광학필름용 Roll-to-Roll 건식초음파 세정기 개발 완료

□ 정량적 목표항목 및 달성도
1. 제진(집진율)파티클 사이즈 0.3 um 이상
- 계획 : 98 %
- 실적 : Film 위의 이물질을 플라즈마를 적용한 세정기를 통해 효과적으로 제거하고 제거된 이물질의 98% 이상을 집진 할 수 있는 시스템 개발 완료
2. 소음
- 계획 : 80 dB
- 실적 : 개발 완료하여 제작한 시제품의 성능 TEST 시, 개발 목표치인 80 dB이하의 소음을 나타내는 시스템 개발 완료
3. 이송속도
- 계획 : 150mm/sec
- 실적 : 150 mm/sec의 이송속도로 FIlm 위 이물질을 제거하는 시스템 개발 완료
4. 처리 폭
- 계획 : 1500 mm
- 실적 : 다양한 크기의 광학 Film 내 이물질 제거에 적용할 수 있는 세정 처리 폭 (1,500 mm) 을 확보한 세정기 시스템 개발 완료
5. 최고사용압력
- 계획 : 80 g/cm²
- 실적 : 최고압력 사용에도 플라즈마 발생에 영향을 끼치지 않는 세정기 시스템 개발 완료
6. 헤드정밀도
- 계획 : ±0.2 mm
- 실적 : 균질한 플라즈마를 발생시키기 위한 정밀 헤드기구물을 적용한 세정기 시스템 개발 완료

□ 기대효과
￭LCD 및 광학 필름 제조에 있어서 표면 유기 오염물 제거 및 밀착력향상을 위한 습식 세정장치와 무기 오염물 제거를 위한 건식 세정 장치가 분리되어 운영되어 오고 있었지만 본 연구 개발을 통해 각 각 설치되어 있던 세정장치를 일체화하여 세정효과의 극대화와 더불어 불량률을 크게 낮추어 생산성 향상에 큰 기여를 할 수 있을 것으로 기대됨.
￭ 유∙무기 오염물 각 각을 제거하기 위한 시스템을 대체할 수 있는 소형화된 일체식 건식 세정기의 연구 개발을 통하여 LCD 및 광학 필름 생산 라인 내 공간적인 문제점을 해결 할 수 있을 것으로 기대됨.
￭습식 세정의 가장 큰 문제점으로 제기되고 있는 세정 시간을 획기적으로 줄이기 위한 방법의 하나로 플라즈마(plasma)를 적용한 세정 시스템의 연구 개발로써 유∙무기 오염물의 동시 제거 그리고 이를 통하여 세정 시간을 획기적으로 줄일 수 있을 것으로 기대됨.
￭LCD 및 광학 필름 위에 존재하는 유∙무기 오염물 제거를 위한 기존의 방법으로는 아르곤 또는 질소 가스 등과 같은 불활성 가스가 이용되고 있지만 본 연구 개발에서는 질소 가스의 응용연구뿐만 아니라 대기압에서 Air를 이용할 수 있는 유기 오염물 제거 시스템 연구 개발이므로 환경적 측면뿐만 아니라 경제적 기대효과가 매우 클 것으로 기대됨.

□ 적용분야
￭기존의 LCD 및 광학 필름 제조 공정에 있어서 고비용 투자 및 고 유지비용이 필요한 습식 세정기의 대체 장비로서의 활용.
￭LCD 및 광학 필름 표면의 유기 오염물 제거에 탁월한 적정량의 플라즈마 방출을 통해 습식 세정의 단점을 보완한 플라즈마 이용 건식 세정기로 대체 활용.
￭LCD 및 광학 필름 표면의 유∙무기 오염물 제거뿐만 아니라 유∙무기 오염물의 제거가 필수인 타 산업 분야에 연구 기술 적용으로 시장 확대 활용.

(출처 : 요약서 6p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 중소기업 기술개발사업 최종보고서 ... 2
• 제 출 문 ... 4
• 요 약 서 (초 록) ... 6
• 목차 ... 8
• 제 1 장. 개발 기술의 개요 ... 9
• 제 1 절. 개발 대상 기술의 개요 ... 9
• 1. 대상기술(또는 제품)의 개요 및 개발 필요성 ... 9
• 2. 기술개발시 예상되는 효과 및 활용방안 ... 14
• 제 2 장. 개발 목표 및 개발 내용 ... 19
• 제 1 절. 기술개발 목표 ... 19
• 1. 기술개발 최종 목표 ... 19
• 제 2 절. 세부 개발내용 및 방법 ... 21
• 1. 1차년도 세부 개발 ... 21
• 2. 2차년도 세부 개발 ... 22
• 3. 기술개발에 따른 평가/분석 ... 23
• 제 3 장. 기술 개발에 따른 평가 및 분석 결과 ... 24
• 제 1 절. 기술 개발에 따른 시스템 제작 결과 ... 24
• 1. 시제품 제작 결과 ... 24
• 제 2 절. 기술 개발에 따른 실험 결과 ... 28
• 1. 전극 설계 및 구조 변경 ... 28
• 2. 시제품화 된 1,500 mm 전극 성능 분석 및 평가 ... 41
• 3. 분광분석기에 의한 플라즈마 방전 특성 분석 결과 ... 50
• 4. 광학용 테스트 샘플 분석 ... 53
• 제 3 절. 개발 기술의 시험 성적 결과 ... 56
• 1. 제진(집진율) 파티클 사이즈 0.3 um 이상 (시험평가 의뢰) ... 57
• 2. 소 음 (시험 평가 의뢰) ... 61
• 3. 이송 속도 (자체 평가) ... 63
• 4. 처리폭 (자체 평가) ... 66
• 5. 최고사용압력 (자체 평가) ... 67
• 6. 헤드정밀도 (시험 분석 의뢰) ... 70
• 제 4 장. 성과요약 및 기대효과 ... 73
• 제 1 절. 결과활용 및 사업화 방안 ... 73
• 1. 주요 핵심 기술 및 차별화 전략 ... 73
• 2. 성과 요약 및 기대 효과 ... 73
• 3. 제품개발 계획 ... 74
• 4. 신뢰성 (Reliability) 인증 확보 계획 ... 74
• 5. 양산 및 판로 확보 계획 ... 75
• 끝페이지 ... 75