초록 ▼

본 연구에서는 비반사성과 초발수성을 갖는 표면과 복제필름을 염가로 대량 생산할 수 있는 기술을 개발하기 위하여 모기나 나방 눈 구조과 같이 나노 필러들이 정렬된 구조를 갖는 표면을 제조할 수 있는 몰드(금형)을 아주 저렴하고 단순한 방법인 양극산화와 습식 식각법을 사용하여 개발하고자, 아주 낮은 표면거칠기를 갖는 알루미늄 표면 연마장치와 연마공정기술, 그리고 이 알루미늄 롤 표면에 나노패턴을 새길 수 있는 양극산화장치와 양극산화공정기술 및 식각장치와 식각공정기술을 개발하고자 하였다. 그 결과, 균일하게 아주 낮은 표면거칠기를 가질

본 연구에서는 비반사성과 초발수성을 갖는 표면과 복제필름을 염가로 대량 생산할 수 있는 기술을 개발하기 위하여 모기나 나방 눈 구조과 같이 나노 필러들이 정렬된 구조를 갖는 표면을 제조할 수 있는 몰드(금형)을 아주 저렴하고 단순한 방법인 양극산화와 습식 식각법을 사용하여 개발하고자, 아주 낮은 표면거칠기를 갖는 알루미늄 표면 연마장치와 연마공정기술, 그리고 이 알루미늄 롤 표면에 나노패턴을 새길 수 있는 양극산화장치와 양극산화공정기술 및 식각장치와 식각공정기술을 개발하고자 하였다. 그 결과, 균일하게 아주 낮은 표면거칠기를 가질 수 있는 롤 내·외부 냉각형의 회전식 전해연마장치를 개발하여 균일하게는 50nm의 표면거칠기를 갖는, 국소적으로는 20nm까지의 표면거칠기를 알루미늄 롤 표면을 제조할 수 있는 전해연마공정기술을 개발하였다. 그리고 알루미늄 표면에 균일한 나노패턴을 새길 수 있는 롤 내·외부 냉각형의 회전식 양극산화장치와 외부 표면 침적형 회전식 식각장치를 제작하여, 균일한 나노패턴 형성을 위한 최적의 양극산화공정과 식각공정의 개발을 도모하였으나, 아직 최적의 공정을 개발하지 못하였다.

(출처 : 보고서 초록 3p)

Abstract ▼

Ⅱ. Abstrct
In the present study, simple and cheap fabrication methods including anodic oxidation and wet-etching were developed to develop nanoporous anodic aluminum oxide (AAO) roll molds for mass-producing anti-reflective and superhydrophobic films in which nano-size pillars are arrayed as thos

Ⅱ. Abstrct
In the present study, simple and cheap fabrication methods including anodic oxidation and wet-etching were developed to develop nanoporous anodic aluminum oxide (AAO) roll molds for mass-producing anti-reflective and superhydrophobic films in which nano-size pillars are arrayed as those in eyes of mosquitos and mosses. Also micro/nano-porous AAO molds to fabricate the surface morphology in lotus leaf in which micro/nano-pillars are arrayed, were developed by using UV-light lithography, anodic oxidation and wet-etching Then the methods to replicate the surface morphology of the AAO molds to the surface of polymer films, including polymer solution method, thermal replication and chemical replication methods, were developed.

As results, polymer film showing both anti-reflection and superhydrophobicity in which the surface contains an array of nano-pillars 50 nm in diameter and 400 nm in height and revealed a light transmittance of 90.4% at 550 nm wavelength and a water contact angle (WCA) of 153° , could be developed. Also superhydrophobic polymeric films in which the surface contains an array of micro and nano-pillars shows a WCA of 147°and a light transmittance of 60% at 550 nm wavelength was developed.

(출처 : SUMMARY 7p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 초록 ... 3
• 요 약 문 ... 4
• S U M M A R Y ... 7
• C O N T E N T S ... 8
• 목차 ... 9
• 제 1 장 연구개발과제의 개요 ... 10
• 제 1 절 개요 ... 10
• 제 2 절 연구개발 최종목표 ... 14
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ... 15
• 제 1 절 국내 기술개발 현황 ... 15
• 제 2 절 국외 기술개발 현황 ... 15
• 제 3 절 지적재산권 현황 및 회피 전략 ... 16
• 제 3 절 과제 연구팀의 기술수준 ... 17
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 19
• 제 1 절 전해연마기술 개발 ... 19
• 제 2 절 기계적 연마에 의한 매우 낮은 표면거칠기의 알루미늄 롤 표면 제조 연구 ... 146
• 제 3 절 전해연마한 알루미늄 롤의 양극산화 및 에칭 연구 ... 149
• 제 4 절 결 론 ... 156
• 끝페이지 ... 157