최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 세원하드페이싱 |
---|---|
연구책임자 | 문흥수 |
보고서유형 | 연차보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2017-11 |
과제시작연도 | 2017 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
과제관리전문기관 | 연구개발특구진흥재단 Innopolis Foundation |
등록번호 | TRKO201800035871 |
과제고유번호 | 1711062888 |
사업명 | 연구개발특구육성 |
DB 구축일자 | 2018-07-21 |
키워드 | 마이크로웨이브 플라즈마.용사 분말.표면처리 유동성. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201800035871 |
1. 연차목표
- 5~25㎛ 용사 분말 제조 공정 확립
- 5~25㎛ 용사 분말을 이용한 치밀막 용사 코팅 공정 개발
- 5~25㎛ 분말 처리 가능한 30 kW 915 MHz 마이크로웨이브 플라즈마 모듈 설계 및 구축
2. 개발내용 및 결과
- 슬러리 볼륨 분산제 및 첨가제를 이용하여 최적화된 구형과립화 슬러리 공정을 개발
- 앞서 개발된 슬러리를 분무 건조 장비에 투입하고 disc speed, feeding rate, inlet 온도를 조절하여, 구형의 5~25㎛ 용사 분말 제조에 최적화된
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.