초록 ▼

핵심기술
- 고속 광폭 표면처리가 가능한 1.5 m 급 선형이온소스 개발
- 프토로 타입 R2R 시스템 개발 및 이를 활용한 유연기판 표면 처리 공정 개발

최종목표
1.5 m급 대형 표면처리용 고신뢰 선형이온빔 소스 개발 및 프로토 타입 R2R 표면처리 시스템 개발

개발내용 및 결과
- 전산모사를 통한 선형이온소스 전자장 설계 최적화 및 가스분배 구조 개선등을 통한 균일도 확보 연구
: 1.5 m 선형이온건 균일도 ± 6 % 확보

- 선형이온소스 인출 성능 향상을 위해

핵심기술
- 고속 광폭 표면처리가 가능한 1.5 m 급 선형이온소스 개발
- 프토로 타입 R2R 시스템 개발 및 이를 활용한 유연기판 표면 처리 공정 개발

최종목표
1.5 m급 대형 표면처리용 고신뢰 선형이온빔 소스 개발 및 프로토 타입 R2R 표면처리 시스템 개발

개발내용 및 결과
- 전산모사를 통한 선형이온소스 전자장 설계 최적화 및 가스분배 구조 개선등을 통한 균일도 확보 연구
: 1.5 m 선형이온건 균일도 ± 6 % 확보

- 선형이온소스 인출 성능 향상을 위해 전극 구조 개선을 통한 인출빔 최적화 연구 수행
: 최초 이온원 구조 대비 2.3배 성능 향상

- 선형이온소스 신뢰성 향상 및 R2R 장비 상 빔 진단을 위한 페러데이 타입 전류밀도 측정 및 광진단 장치 개발 및 평가 완료

- 선형이온소스를 적용한 표면개질 및 증착용 프로토 타입 R2R 시스템을 개발, 이를 이용하여 대전방지막 형성 공정 개발 완료
: 1.5x10^-6 ~ 9.0x10^-7 Ω/sq 특성 대전방지필름 제조

- 본과제를 통해 개발된 선형이온소스 및 표면처리 기술을 통해
: 2017년 선형이온소스 해외 수출 12대 17.5억원 매출 확보

기술개발 배경
- 국내 표면처리 시장 중 이온빔 표면처리 관련 시장은 전체 시장의 약 25 %를 차지하고 있으나, 관련 선형이온소스 제작 기술의 경우 국외 선진사 제품을 copy하여 사용하고 있는 상황임.

- 이에 본 과제를 통하여 선형이온소스 제작 및 표면처리 공정 개발을 통해 지식재산권과 관련된 특허를 중심으로 기술 경쟁력을 확보하고자 함.

핵심개발 기술의 의의
- 선형이온소스 성능 주요 인자 및 전극구조 개선을 통해 초기 선형소스 대비 2.3 배 이상 성능 향상 및 ± 6% 균일도 확보
- 사용 목적 (에칭,증착) 최적화된 선형소스 제작 설계안 도출
- 선형이온소스 방전 모드 변경을 통한 고속, 무손상 유연기판 표면처리 공정 안정성(50시간 연속 가동) 확보
- 개발 진단장치를 통한 선형이온소스 실시간 진단 시스템 확보
- 참여기업의 R2R 장치 개발 능력 확보 및 이를 통한 대전방지막 양산가능성 확인

적용 분야
- 선형이온소스를 활용하여 유무기 표면의 전처리 및 표면 활성화 ,식각 및 증착등의 다양한 표면처리 분야 적용
- 디스플레이, 조명, 태양전지, 유연소자/센서 및 외장재 및 바이오 분야의 광폭 고속 표면처리 기술 적용

(출처 : 최종보고서 초록 4p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 기술개발사업 최종보고서 초록 ... 3
• 기술개발사업 주요 연구성과 ... 7
• 목차 ... 17
• 제 1장 서론 ... 19
• 제 1절 과제의 개요 ... 19
• 1. 개발 대상 기술·제품의 개요 ... 19
• 제 2 장 과제 수행내용 및 결과 ... 21
• 제 1절 최종 목표 및 평가 방법 ... 21
• 1 과제의 최종 목표 ... 21
• 2. 과제의 세부 평가 방법 ... 21
• 제 2 절 연차별 개발 내용 ... 24
• 제 3 절 핵심 기술 개발 결과 ... 30
• 1. 연차별 핵심 기술 개발 결과 요약 ... 30
• 2. 핵심 기술 개발 배경 및 원리 ... 33
• 1. 대형 표면처리용 고신뢰성 선형이온소스 개발 결과 ... 35
• 2. 선형이온소스 신뢰성 향상을 위한 진단계 개발 ... 58
• 3. 프로토 타입 Roll-to-Roll 표면처리 장비 개발 ... 76
• 4 선형이온소스 이용 표면처리 및 코팅 공정 현장 평가 연구 ... 86
• 제 4 절 유형적 발생품(연구시설, 연구장비 등) 구입 및 관리 현황 ... 98
• 제 3 장 결과 ... 103
• 제 1절 연구개발 최종 결과 ... 103
• 1. 연구개발 추진 일정 ... 103
• 2. 연구개발 추진 실적 ... 106
• 제 2절 연구개발 추진 체계 ... 121
• 1 각 기관/기업별 추진 내역 ... 121
• 제 3 절 고용 창출 효과 ... 126
• 제 4 절 자체보안관리진단표 ... 127
• 제 4 장 사업화 계획 ... 128
• 제 1절 시장 현황 및 전망 ... 128
• 제 2절 사업화 계획 ... 131
• 1. 사업화 형태 및 예상 수요처 ... 131
• 2 사업화 전략 ... 132
• 3. 사업화 일정 및 생산 계획 ... 134
• 제 3 절 향후 추가 기술 개발 계획 ... 136
• 부록 : 시험성적서, 도면, 설계도 등 ... 137
• 끝페이지 ... 144