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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국기계연구원 Korea Institute of Machinery and Materials |
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연구책임자 | 이건환 |
참여연구자 | 남욱희 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-01 |
과제시작연도 | 2018 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201900001667 |
과제고유번호 | 1711080129 |
사업명 | 재료연구소연구운영비지원(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2019-06-01 |
키워드 | 열교환기 기판.융합 질화 박막.밀착력.이온 플레이팅.내식 박막.Exothermal Substrate.Hybrid Nitride Film.Adhesion.Ion-plating.Corrosion Resistant Film. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201900001667 |
○ 가스켓 타입의 판형 열교환기 기판의 내구성 향상을 위해 아래와 같은 세부 표면처리 기술을 개발하였음.
- 고밀도 플라즈마 전처리 기술 : 플라즈마 전처리는 물체 표면에 플라즈마를 발생시켜 500V~800V의 방전전압을 인가시켜 표면의 이물질을 제거하는 것이며 그 공정 시간은 제품의 용도 및 밀착력의 정도에 따라 달리할 수 있음. 당연구실에서는 이에 대한 다년간의 연구 경험을 바탕으로 열교환기 기판의 내부식 코팅층 형성 전처리 기술을 개발하였으며 본 공정을 이용하여 박막층과 모재의 밀착력 값을 60N 이상 얻을 수 있었음.<
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