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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국표준과학연구원 Korea Research Institute of Standards and Science |
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연구책임자 | 문창연 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-06 |
과제시작연도 | 2018 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO201900020485 |
과제고유번호 | 1711071830 |
사업명 | 개인기초연구(과기정통부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-04-25 |
키워드 | 철초전도체.도핑.Si(111)-(수식)표면.강자성.DFT+DMFT. |
□ 연구개요
1. DFT+DMFT 방법을 이용해 LaFeAsO₁-xHx 철초전도체에서 외부 불순물 (H) 도핑에 따른 반강자성의 억제와 재출현에 대한 원인과, 불순불 도핑이 철초전도체에 일으키는 일반적인 효과에 대해 포괄적으로 규명한다.
2. DFT+DMFT free energy functional에 대한 Hellmann-Feynman force를 계산하여 원자구조를 최적화 할 수 있는 기법을 코드에 이식하고 이를 이용해 SrTiO₃ 기판위에 놓인 FeSe 박막의 두께가 얇아지면서
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