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저온 플라즈마를 이용한 negative-charged 패시베이션 박막 형성 기술 개발을 통한 p-type (Boron) doped 표면 패시베이션 최적화 기술 개발 및 이를 적용한 23% 이상 저가, 고효율 n-type bifacial 태양전지 구현
Development of technology for negative-charged passivation thin layer on boron doped surface by low temperature plasma technique and low cost, high efficiency n-type bifacial Si solar cell more than 23% conversion efficiency 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 성균관대학교
SungKyunKwan University
연구책임자 김영국
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2019-06
과제시작연도 2019
주관부처 과학기술정보통신부
Ministry of Science and ICT
등록번호 TRKO202000002201
과제고유번호 1345295931
사업명 개인기초연구(교육부)(R&D)
DB 구축일자 2020-07-29
키워드 n-type 태양전지.패시베이션.양면 수광형 태양전지.Field effect passivation.Boron-doping.

초록

□ 연구개요
∘ 기존의 p 형(Boron doped) 실리콘 표면에 대한 passivation 박막 형성기술인 ALD 나 PE-ALD를 이용한 Al2O3, 고온 공정인 Thermal SiO2등 방식을 대체할 수 있는 기술 개발로 저온 플라즈마를 이용하여 실리콘 표면에 패시베이션 박막을 형성하고, 박막 내에 negative charge를 다량 형성함으로써 passivation 효과 극대화하고, 연계 태양전지 제조 공정(Boron doping 공정, 전극형성 공정 등)들을 최적화하고, 이를 n-type bifacial 태양전지에

목차 Contents

  • 표지 ... 1
  • 연구결과 요약문 ... 2
  • 목차 ... 3
  • 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
  • 1.1. 최종목표 ... 4
  • 1.2 연구범위 ... 4
  • 1.3 연구개발의 필요성 ... 4
  • 2. 연구수행내용 및 연구결과 ... 5
  • 3. 연구개발결과의 중요성 ... 9
  • 4. 참고문헌 ... 9
  • 5. 연구성과 ... 10
  • 끝페이지 ... 11

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참고문헌 (25)

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