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NTIS 바로가기주관연구기관 | 성균관대학교 SungKyunKwan University |
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연구책임자 | 김영국 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-06 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000002201 |
과제고유번호 | 1345295931 |
사업명 | 개인기초연구(교육부)(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | n-type 태양전지.패시베이션.양면 수광형 태양전지.Field effect passivation.Boron-doping. |
□ 연구개요
∘ 기존의 p 형(Boron doped) 실리콘 표면에 대한 passivation 박막 형성기술인 ALD 나 PE-ALD를 이용한 Al2O3, 고온 공정인 Thermal SiO2등 방식을 대체할 수 있는 기술 개발로 저온 플라즈마를 이용하여 실리콘 표면에 패시베이션 박막을 형성하고, 박막 내에 negative charge를 다량 형성함으로써 passivation 효과 극대화하고, 연계 태양전지 제조 공정(Boron doping 공정, 전극형성 공정 등)들을 최적화하고, 이를 n-type bifacial 태양전지에
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