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Kafe 바로가기주관연구기관 | 비츠로넥스텍 |
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연구책임자 | 현성윤 |
참여연구자 | 유동호 , 박성주 , 김경렬 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-09 |
과제시작연도 | 2018 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202000003697 |
과제고유번호 | 1711064583 |
사업명 | 방사광가속기공동이용연구지원(R&D) |
DB 구축일자 | 2020-07-29 |
키워드 | 클라이스트론.설계기술.공정기술.베이킹.프로세싱.Klystron.Design.Manufacturing.Baking.HV/RF Processing. |
1. 연구개발 목표 및 내용
∙ 클라이스트론의 제작기술(수리기술 포함)과 시험 기술을 개발하여 상용화 할 수 있는 기술을 확보
∙ 클라이스트론의 개발 사양 : 주파수 2,856 MHz, 최대 출력 80 MW, 펄스폭 4 μs, 펄스 반복율 60 Hz, 최대 효율 45%
2. 연구 결과
∙ 클라이스트론 수리 및 제작 기술과 성능평가 기술 개발을 완료함.
∙ 성능 시험 결과
- 펄스폭 4 μs, 펄스반복율 60 Hz에서 출력 60 MW, 안정적 연속운전 달성
- 펄스폭 4 μs, 펄스반복율 30
1. 연구개발 목표 및 내용
∙ 클라이스트론의 제작기술(수리기술 포함)과 시험 기술을 개발하여 상용화 할 수 있는 기술을 확보
∙ 클라이스트론의 개발 사양 : 주파수 2,856 MHz, 최대 출력 80 MW, 펄스폭 4 μs, 펄스 반복율 60 Hz, 최대 효율 45%
2. 연구 결과
∙ 클라이스트론 수리 및 제작 기술과 성능평가 기술 개발을 완료함.
∙ 성능 시험 결과
- 펄스폭 4 μs, 펄스반복율 60 Hz에서 출력 60 MW, 안정적 연속운전 달성
- 펄스폭 4 μs, 펄스반복율 30 Hz에서 출력 80 MW, 효율 43% 달성
- 펄스폭 4 μs, 펄스반복율 60 Hz에서 출력 76 MW, 효율 42% 달성
(출처 : 보고서 요약서 3p)
Ⅳ. Results of Research
◯ Development of Physical and Engineering Design for Klystron
- Design and simulation of electron gun : thermal expansion, beam optics, multipacting phenomena and etc.
- Design and simulation of cavities : sensitivity analysis of design parameters and their toleranc
Ⅳ. Results of Research
◯ Development of Physical and Engineering Design for Klystron
- Design and simulation of electron gun : thermal expansion, beam optics, multipacting phenomena and etc.
- Design and simulation of cavities : sensitivity analysis of design parameters and their tolerances. Completed fabrication/alignment tolerances for the electron gun and cavities
- Establish a systematic beam-matching procedure
- Completed beam-loss suppression and high-efficiency(adopting 2nd harmonic cavity and COM(core-oscillation method)) designs
◯ Development of Repairing Technologies
- A klystron was successfully reproduced using two out of order klystrons supplied by Pohang Accelerator Laboratory.
- A troubled windows in a klystron was successfully repaired.
- A systematic approach to repair protocol has been established from the repair/manufacturing to the test/verification.
◯ Development of Manufacturing Technologies
- Transfer manufacturing technologies to industry
- Established fabrication facilities
- The process has been set up for :
· Machining and assembly of components;
· Assembly and processing of the electron gun
· Machining and tuning of the resonant cavities
· High-temperature heat treatment for achieving ultra-high vacuum
- Based on the settled process above, the manufacturing of four new klystrons and repairing of one damaged klystron were successfully conducted.
◯ Development of Test/Verification Process
- Transfer klystron processing technologies to industry : Performed OJT(On the Job Training) on klystron processing
- The process has been established for High-Voltage and RF Processings : Established processing facilities including pulseto-pulse interlocking and data gathering system
- The fourth newly manufactured prototype has achieved the performance as follows :
· RF Power of 60 MW with continuous stable operation of 17 hrs at pulse width 4 ㎲ and pulse repetition rate 60 Hz .
· RF Power of 80 MW with 43 % efficiency and continuous stable operation of 1 hr at pulse width 4 ㎲ and pulse repetition rate 30 Hz.
· RF Power of 76 MW with 42 % efficiency and continuous stable operation of two times of 30 minutes at pulse width 4 ㎲ and pulse repetition rate 60 Hz.
◯ Cultivate Manpowers
- 6 Experts in industry, 1 Ph.D and 1 MS student.
(출처 : SUMMARY 8p)
과제명(ProjectTitle) : | - |
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연구책임자(Manager) : | - |
과제기간(DetailSeriesProject) : | - |
총연구비 (DetailSeriesProject) : | - |
키워드(keyword) : | - |
과제수행기간(LeadAgency) : | - |
연구목표(Goal) : | - |
연구내용(Abstract) : | - |
기대효과(Effect) : | - |
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