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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국재료연구원 Korea Institute of Materials Science |
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연구책임자 | 이건환 |
참여연구자 | 남욱희 , 정은욱 , 통가 |
보고서유형 | 3단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2021-01 |
과제시작연도 | 2020 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100000190 |
과제고유번호 | 1711120201 |
사업명 | 재료연구소연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2021-05-15 |
키워드 | 열교환기 기판.융합 질화 박막.밀착력.이온 플레이팅.내식 박막.Exothermal Substrate.Hybrid Nitride Film.Adhesion.Ion-plating.Corrosion Resistant Film. |
○ 가스켓 타입의 판형 열교환기 기판의 내구성 향상을 위해 아래와 같은 세부 표면처리 기술을 개발하였으며 열교환기 기판 시제품을 제작하였음.
- 고밀도 플라즈마 전처리 기술 : 플라즈마 전처리는 물체 표면에 플라즈마를 발생시켜 표면의 이물질을 제거하는 것이며 그 공정 시간은 제품의 용도 및 밀착력의 정도에 따라 달리할 수 있음. 당연구실에서는 이에 대한 다년간의 연구 경험을 바탕으로 열교환기 기판의 내부식 코팅층 형성 전처리 기술을 개발하였으며 가속전압 1100V 이상을 인가시켜 박막층과 모재의 밀착력 값을 60N 이상 얻을
Ⅱ. Objectives
- The existing development of heat exchangers was mainly focused on improving efficiency by optimizing the substrate shapes, and research on the quality of the heat exchanger through improving the characteristics of the substrate is very few. Therefore, in this research and developm
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