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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
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연구책임자 | 임진호 |
참여연구자 | 박휘근 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2019-09 |
과제시작연도 | 2019 |
주관부처 | 과학기술정보통신부 Ministry of Science and ICT |
등록번호 | TRKO202100008260 |
과제고유번호 | 1711101037 |
사업명 | 한국생산기술연구원연구운영비지원(R&D)(주요사업비) |
DB 구축일자 | 2021-08-14 |
키워드 | 반도체 에칭 공정.플라즈마.노즐.수명.사파이어.semiconductor Etching Process.Plasma.Nozzle.Lifetime.Sapphire. |
□ 기업의 애로사항
○ 반도체관련 전문 인력 및 측정/분석 관련 장비 부족
○ 반도체 부품의 침식문제로 공정 안정성 미확보
□ 지원(해결) 내용
○ 연구(지원)내용 기입
- 기존 Quartz 소재가 가지는 짧은 수명과 침식문제를 개선하기 위해, Alumina 소재의 Window와 Sapphire 소재의 Nozzle을 개발
- 고경도 소재의 형상구현을 위한 가공기술 개발, 소재 변경에 따른 수명향상 특성 분석, CVD챔버내 가스흐름 유동해석을 통한 구조 안정성 확보 수행
□ 지원 성
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