초록 ▼

□ 연구내용
○ 질화티탄(TiN) 박막의 실시간 비파괴 In situ 전수 품질 모니터링 시스템 구축
- In situ 반사율 검증: 표준 반사율 변환 오차 0.79%p 수준으로 1%p이내 달성
- TiN 반사율을 조성비(N/Ti)로의 변환 정확도 95% 이상 확보(95.6%~96.7%)
○ 디스플레이 패널 제조 양산라인 수준의 TiN 막질 확보
- BOE(Buffered Oxide Etchant)　습식식각속도 10Å/min(양산기준) 이하 달성
○ 반응성 스퍼터링 TiN 박막의 품질 예측 알고리즘

□ 연구내용
○ 질화티탄(TiN) 박막의 실시간 비파괴 In situ 전수 품질 모니터링 시스템 구축
- In situ 반사율 검증: 표준 반사율 변환 오차 0.79%p 수준으로 1%p이내 달성
- TiN 반사율을 조성비(N/Ti)로의 변환 정확도 95% 이상 확보(95.6%~96.7%)
○ 디스플레이 패널 제조 양산라인 수준의 TiN 막질 확보
- BOE(Buffered Oxide Etchant)　습식식각속도 10Å/min(양산기준) 이하 달성
○ 반응성 스퍼터링 TiN 박막의 품질 예측 알고리즘 기술 개발
- Support vector regression 모델 기반 초기 조건과 중간 변수를 바탕으로 TiN 박막 품질 N/Ti 조성비 예측하도록 구성한 결과 1000회 반복 테스트 기준 품질 예측 오차 4.70% 수준 달성
○ OES(Optical Emission Spectroscopy) 실시간 플라즈마 모니터링 관점 효용성 검증
○ OES 광학센서 상부 증착회피 대체 수정 기술 제안 및 기초 모사 검증

□ 연구개발 성과
○ 정성적 성과
- 반사율과 품질간의 상관관계를 이용한 실시간 In situ 비파괴 TiN 박막 품질 전수 검사로 기존 샘플링 검사로 인한 불량 유출 문제 및 후속 공정단에서 유출된 불량 Ex situ 파괴분석의 비효율성을 해결
○ 기술스펙 달성 성과

□ 기술적 우수성
○ 실시간 TiN 조성비 품질 전수 검사 및 예측 가능 알고리즘 기술
- TiN 박막 실시간 In situ 반사율 측정 정합성(오차 0.79%p) 및 TiN 조성비 변환 정확도(95.6%)의 우수성
- TiN 박막 조성비 품질 예측 오차(4.70%)의 우수성

□ 성과활용
○ 차세대 OLED 패널 제조 수요기업의 양산 스퍼터 공정 지능화 기술로 활용
- 고해상도 OLED 디스플레이 패널 제조용 저저항 Al Gate 배선 Barrier TiN 스퍼터 장비의 실시간 품질 전수 검사 기술로 활용
- 타 반응성 스퍼터 양산 공정(예. IGZO 산화물 반도체)의 실시간 모니터링, 품질 예측 기반 공정 지능화 기술에 확대 적용
○ 소재·부품·장비 정부 R&D 사업 기획에 활용
- 소재부품장비 핵심전략품목 사업 내 ‘8.5세대 기판용 중소형 OLED 양산화를 위한 초청정 저손상 클러스터 스퍼터 개발’ RFP에 기술 적용

(출처 : 연구 요약 4p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 기관주요사업 사업계획서 ... 3
• 연구 요약 ... 4
• 목차 ... 6
• 제 1 장 개 요 ... 7
• 제 1 절 연구개발(지원) 목표 ... 7
• 제 2 절 연구개발(지원)의 필요성 ... 7
• 제 3 절 당해연도 연구개발(지원) 범위 ... 9
• 제 2 장 연구개발(지원) 내용 및 결과 ... 10
• 제 1 절 연구개발(지원) 추진 체계 ... 10
• 제 2 절 당해연도 연구개발(지원) 내용 ... 12
• 제 3 절 당해연도 연구개발(지원) 결과 ... 25
• 제 3 장 연구성과 활용 시나리오 ... 28
• 제 1 절 연구성과 활용 시나리오 ... 28
• 제 4 장 차년도 사업추진계획 ... 29
• 제 1 절 차년도 사업추진 내용 ... 29
• 제 2 절 차년도 사업추진 일정 ... 30
• 제 3 절 차년도 세부 성능지표(Spec) ... 31
• 끝페이지 ... 35